特許
J-GLOBAL ID：200903022776453942

露光方法

発明者：
川島 美代子

川島 美代子 について

, 
山添 賢治

山添 賢治 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 藤元 亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-272626
公開番号（公開出願番号）：特開2004-111678
出願日： 2002年09月19日
公開日（公表日）： 2004年04月08日
要約：
【課題】偏光の影響による結像性能の劣化を防止し、所望のパターンを形成することができる露光方法を提供する。【解決手段】マスクに形成されたパターンを、S偏光のみが存在する第1の部分とS偏光及びP偏光が混在する第2の部分とを有する有効光源を形成する照明系を用いて照明し、前記マスクを経た光を、投影光学系を介して被処理体に投影することを特徴とする露光方法を提供する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
マスクに形成されたパターンを、S偏光のみが存在する第1の部分とS偏光及びP偏光が混在する第2の部分とを有する有効光源を形成する照明系を用いて照明し、 前記マスクを経た光を、投影光学系を介して被処理体に投影することを特徴とする露光方法。
IPC (3件)：
H01L21/027 ,  G02B19/00 ,  G03F7/20
FI (3件)：
H01L21/30 515D ,  G02B19/00 ,  G03F7/20 521
Fターム (6件)：
2H052BA01 ,  2H052BA06 ,  2H052BA12 ,  5F046BA03 ,  5F046CB15 ,  5F046CB23
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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