特許
J-GLOBAL ID：200903022779003905

投射光学系及び画像投射装置

発明者：
安部 一成

安部 一成 について

, 
藤田 和弘

藤田 和弘 について

, 
高浦 淳

高浦 淳 について


出願人/特許権者：
株式会社リコー

株式会社リコー について


代理人 (1件)： 伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-264801
公開番号（公開出願番号）：特開2008-165187
出願日： 2007年10月10日
公開日（公表日）： 2008年07月17日
要約：
【課題】物体と共役な第一の像を形成する第一の光学系、及び、該第一の像と共役な第二の像を被投射面に向かって投射する第二の光学系を含み、像距離が変化させられると共に該第二の像の大きさが変化させられる、投射光学系を提供する。【解決手段】物体と共役な第一の像を形成する第一の光学系、及び、該第一の像と共役な第二の像を被投射面に向かって投射する第二の光学系を含み、且つ、該第一の光学系及び該第二の光学系の少なくとも一方は、該物体に対して移動可能な少なくとも一つの光学素子を含む、投射光学系において、該物体に対して該光学素子の少なくとも一つを移動させることによって、当該投射光学系の像距離が変化させられると共に該第二の像の大きさが変化させられる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
物体と共役な第一の像を形成する第一の光学系、及び、該第一の像と共役な第二の像を被投射面に向かって投射する第二の光学系を含み、且つ、 該第一の光学系及び該第二の光学系の少なくとも一方は、該物体に対して移動可能な少なくとも一つの光学素子を含む、投射光学系において、 該物体に対して該光学素子の少なくとも一つを移動させることによって、当該投射光学系の像距離が変化させられると共に該第二の像の大きさが変化させられることを特徴とする投射光学系。
IPC (3件)：
G02B 17/08 ,  G03B 21/00 ,  G02B 13/18
FI (3件)：
G02B17/08 A ,  G03B21/00 D ,  G02B13/18
Fターム (17件)：
2H087KA06 ,  2H087MA05 ,  2H087MA09 ,  2H087TA03 ,  2H087TA06 ,  2K103AA01 ,  2K103AA14 ,  2K103AB07 ,  2K103BC03 ,  2K103BC23 ,  2K103BC30 ,  2K103BC43 ,  2K103BC44 ,  2K103BC47 ,  2K103CA12 ,  2K103CA45 ,  2K103CA76
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (8件)
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