処理装置および処理方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：上島淳一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-097441
公開番号（公開出願番号）：特開2001-276752
出願日： 2000年03月31日
公開日（公表日）： 2001年10月09日
要約：

【要約】【課題】レジスト膜の剥離処理や洗浄処理などの各種の処理を行なう時間を長くする必要なしに、短時間で当該処理を確実に行なうことができるようにして、処理装置の全長の短縮化を図ることのできるようにする。【解決手段】上記複数の槽の少なくとも1つの槽は、上記処理ツールとして、上記槽の内部に上記被処理物に対して所定の処理を行うための処理液を供給するディップ・シャワー装置を有し、上記ディップ・シャワー装置を有する槽を除く上記複数の槽の少なくとも1つの槽は、上記処理ツールとして、上記槽の内部に上記被処理物に対して所定の処理を行うための処理液を高圧で噴射する高圧シャワー・ノズルを有する。

請求項（抜粋）：

内部に被処理物に対して所定の処理を行うための処理液を供給する処理ツールをそれぞれ備えた複数の槽と、前記複数の槽のそれぞれの内部に前記被処理物を順次に搬送する搬送手段とを有し、前記搬送手段によって前記被処理物を前記槽の内部に搬送し、前記槽の内部に備えられた前記処理ツールから供給される処理液によって前記被処理物に対して所定の処理を行う処理装置において、前記複数の槽の少なくとも1つの槽は、前記処理ツールとして、前記槽の内部に前記被処理物に対して所定の処理を行うための処理液を供給するディップ・シャワー装置を有し、前記ディップ・シャワー装置を有する槽を除く前記複数の槽の少なくとも1つの槽は、前記処理ツールとして、前記槽の内部に前記被処理物に対して所定の処理を行うための処理液を高圧で噴射する高圧シャワー・ノズルを有するものである処理装置。

IPC (7件)：

B08B 3/02 , B08B 5/00 , H01L 21/304 642 , H01L 21/304 , H01L 21/304 645 , H01L 21/304 648 , H01L 21/304 651

FI (8件)：

B08B 3/02 C , B08B 5/00 A , H01L 21/304 642 B , H01L 21/304 642 F , H01L 21/304 645 A , H01L 21/304 648 L , H01L 21/304 648 A , H01L 21/304 651 G

Fターム (17件)：

3B116AA02 , 3B116AB14 , 3B116BB02 , 3B116BB24 , 3B116BB36 , 3B116BB55 , 3B116CC03 , 3B201AA02 , 3B201AB14 , 3B201BB04 , 3B201BB24 , 3B201BB36 , 3B201BB55 , 3B201BB99 , 3B201CC01 , 3B201CC12 , 3B201CD36

引用特許：

審査官引用 (3件)

液晶素子用ガラス基板の洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-055985 出願人：キヤノン株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-255054 出願人：日本電気株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-228855 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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