特許

J-GLOBAL ID：200903023077513324

パターン形成プロセスの管理方法及び管理装置

発明者： 柳下 祐一郎
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-207394
公開番号（公開出願番号）：特開2004-053683
出願日： 2002年07月16日
公開日（公表日）： 2004年02月19日
要約：

【課題】パターン形成プロセスの管理方法及び管理装置に関し、パターン面積を管理指標として用いることによりパターン形成プロセスの管理を定量的且つ高精度で行うことを目的とする。【解決手段】マスクパターンの投影像の光強度分布をシミュレーションし、該シミュレーションによって得られた光強度分布に基づいて基板上で所定の光強度を満足する投影像の面積を算出し、該投影像の面積に基づいてパターン形成条件を調整するように構成する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

マスクパターンの投影像の光強度分布をシミュレーションし、 該シミュレーションによって得られた光強度分布に基づいて基板上で所定の光強度を満足する投影像の面積を算出し、 該投影像の面積に基づいてパターン形成条件を調整することを特徴とするパターン形成プロセスの管理方法。

IPC (2件)：

G03F1/08 ,  H01L21/027

FI (2件)：

G03F1/08 A ,  H01L21/30 502W

Fターム (3件)：

2H095BA01 ,  2H095BB02 ,  2H095BB36

引用特許：

審査官引用 (4件)

• マスクパターンデータ検査装置、及びマスクパターンデータ最適設計装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-140302   出願人：株式会社日立製作所
• OPCマスク欠陥修正方法及び欠陥修正装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-239981   出願人：凸版印刷株式会社
• レチクル外観検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-112702   出願人：日本電気株式会社
• パターン画像処理装置及び画像処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-008711   出願人：株式会社東芝