特許
J-GLOBAL ID：200903099410362165
OPCマスク欠陥修正方法及び欠陥修正装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-239981
公開番号（公開出願番号）：特開2001-066759
出願日： 1999年08月26日
公開日（公表日）： 2001年03月16日
要約：
【要約】【課題】OPCマスクの欠陥修正方法において、OPCマスク欠陥に対する修正形状を最適化し、かつ良否判定を正確に行うことのできるOPCマスク欠陥修正方法および欠陥修正装置を提供する。【解決手段】OPCパターンの欠陥部分を含むパターン領域の画像データを用いて所定条件で光強度分布シミュレーションすることにより、該OPCマスクに最適化したOPCパターンの修正形状を算出し、その形状に従ってパターン修正することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
OPCマスクの欠陥修正方法において、OPCパターンの欠陥部分を含むパターン領域の画像データを用いて所定条件で光強度分布シミュレーションすることにより、該OPCマスクに最適化したOPCパターンの修正形状を算出し、その形状に従ってパターン修正することを特徴とする、OPCマスク欠陥修正方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 T
, H01L 21/30 502 W
2H095BD04
, 2H095BD26
, 2H095BD27
, 2H095BD31
