特許

J-GLOBAL ID：200903023116786597

研磨液及び研磨方法

発明者： 桜田 剛史 ,  天野倉 仁 ,  篠田 隆 ,  安西 創
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (7件)： 三好 秀和 ,  岩▲崎▼ 幸邦 ,  栗原 彰 ,  川又 澄雄 ,  伊藤 正和 ,  高橋 俊一 ,  高松 俊雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-365623
公開番号（公開出願番号）：特開2005-129822
出願日： 2003年10月27日
公開日（公表日）： 2005年05月19日
要約：

【課題】銅防食剤と銅酸化物が反応して生成した錯体が水溶性であり、研磨後に清浄な被研磨面が得られ、さらに研磨後のディッシングと研磨傷を抑制できる研磨液、及びそれを用いて化学機械研磨する方法を提供する。【解決手段】硫酸銅(II)を添加した際に生成される銅錯体の研磨液への溶解度が液温25°Cで1重量%以上であることと、水を含むこととを特徴とする研磨液であり、好ましくは銅防食剤を含有する研磨液。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

硫酸銅(II)を添加した際に生成される銅錯体の研磨液への溶解度が液温25°Cで1重量%以上であって、水を含むことを特徴とする研磨液。

IPC (5件)：

H01L21/304 ,  B24B37/00 ,  C09K3/14 ,  C09K13/04 ,  C09K13/06

FI (6件)：

H01L21/304 622D ,  B24B37/00 H ,  C09K3/14 550D ,  C09K3/14 550Z ,  C09K13/04 ,  C09K13/06 101

Fターム (6件)：

3C058AA07 ,  3C058CB01 ,  3C058CB02 ,  3C058DA02 ,  3C058DA13 ,  3C058DA17

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 研磨剤および研磨方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-055290   出願人：株式会社東芝

審査官引用 (3件)

• 金属用研磨液及び研磨方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-383538   出願人：日立化成工業株式会社
• 化学機械研磨方法及び化学機械研磨装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-009447   出願人：日本電気株式会社
• 金属用研磨液及び研磨方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-383539   出願人：日立化成工業株式会社