特許
J-GLOBAL ID：200903023118473910
磁気中性線放電型プラズマ利用装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
八木田 茂 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-285699
公開番号（公開出願番号）：特開平11-121197
出願日： 1997年10月17日
公開日（公表日）： 1999年04月30日
要約：
【要約】【課題】磁気中性閉曲線放電プラズマ処理装置において、ループ状磁気中性線放電プラズマの内側に存在する気体の効果的なブラズマ化により加工の一層の均一化及び加工速度の一層の上昇を画ること。【解決手段】形成されたルーブ状磁気中性線放電プラズマの放電管内最大径から最小径迄の大きさの変動を商業周波数で実現させる。
請求項（抜粋）：
真空容器内に磁場零の空間的位置が接続して存在することによって形成される磁気中性閉曲腺を生成する磁場発生手段と、その磁気中性線に沿って高周波電場を印加して気体を放電させることによってブラズマを発生させる電場発生手段とを有し、その磁気中性閉曲線の大きさ及び位置と印加する高周波電場の振幅及ひ周波数とを50サイクル又は60サイクル等の商用周波数に合せて同位相で変動させることを特徴とする磁気中性線放型プラズマ利用装置。
IPC (3件)：
H05H 1/46
, C23C 14/34
, H01L 21/203
H05H 1/46 C
, C23C 14/34 T
, H01L 21/203 S
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (6件)
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