特許
J-GLOBAL ID：200903023163479899

焼成物パターンの形成方法

発明者：
糸川 弦

糸川 弦 について

, 
小島 秀明

小島 秀明 について


出願人/特許権者：
太陽インキ製造株式会社

太陽インキ製造株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-300121
公開番号（公開出願番号）：特開2001-118496
出願日： 1999年10月21日
公開日（公表日）： 2001年04月27日
要約：
【要約】【課題】高精細な焼成物パターンを精度良く形成し得るのに有効な技術を提案すること。【解決手段】本発明にかかる焼成物パターンの形成方法は、基材上にレーザーにて描画可能な有機フィルムを積層し、次いで、この有機フィルムにレーザーを照射してパターン溝を描画することにより埋込型とし、この埋込型のパターン溝にパターン形成材料を埋込み、乾燥および/または硬化した後、有機フィルムを物理的に引き剥がしてから焼成して焼成物パターンとすることを特徴とし、前記有機フィルムを、粘着層を介して基材上に積層することが好ましい構成である。
請求項（抜粋）：
基材上にレーザーにて描画可能な有機フィルムを積層し、次いで、この有機フィルムにレーザーを照射してパターン溝を描画することにより埋込型とし、この埋込型のパターン溝にパターン形成材料を埋込み、乾燥および/または硬化した後、有機フィルムを物理的に引き剥がしてから焼成して焼成物パターンとすることを特徴とする焼成物パターンの形成方法。
IPC (3件)：
H01J 9/02 ,  H01J 9/227 ,  H01J 11/02
FI (3件)：
H01J 9/02 F ,  H01J 9/227 E ,  H01J 11/02 B
Fターム (12件)：
5C027AA01 ,  5C027AA09 ,  5C028FF01 ,  5C028FF08 ,  5C028FF14 ,  5C040GC19 ,  5C040GF19 ,  5C040GG09 ,  5C040JA09 ,  5C040JA11 ,  5C040JA20 ,  5C040MA24
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM