特許
J-GLOBAL ID：200903023208024111
マスクブランクス用基板の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
阿仁屋 節雄
, 油井 透
, 清野 仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-307320
公開番号（公開出願番号）：特開2004-141984
出願日： 2002年10月22日
公開日（公表日）： 2004年05月20日
要約：
【課題】マスクブランクス用基板の研磨工程において、複数バッチに亘る連続した研磨を行っても、安定した研磨速度を保つことにより、表面に欠陥のないマスクブランクス用基板を生産性の低下をもたらすことなく製造するマスクブランクス用基板の製造方法を提供する。【解決手段】マスクブランクス用基板を、研磨機10のキャリア11に設置して上下定盤12、13に挟持し、研磨液はコロイダルシリカ、上下側研磨パッド14、15はスウェードタイプを用い、研磨時の荷重は荷重調整機構Lにより、70〜150g/cm2とし、1バッチ毎の加工時間は、約20〜30分間として研磨を行うが、このとき、1から5バッチ毎に上下定盤14、15の回転の正逆転を行った。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
被加工材であるマスクブランクス用基板を、前記基板の上下両面側に研磨パッドを設けた上下定盤に挟持させ、研磨液を加えながら前記上下定盤を回転させて、前記基板の研磨を複数バッチに亘って行う両面研磨工程を経て製造するマスクブランクス用基板の製造方法であって、
前記両面研磨工程の際、前記研磨液としてコロイダルシリカ砥粒を用い、
前記上下定盤の回転方向を1または複数バッチ毎に逆転させることを特徴とするマスクブランクス用基板の製造方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
B24B37/04 F
, B24B37/00 B
, B24B37/00 C
3C058AA07
, 3C058AA09
, 3C058AA11
, 3C058AA12
, 3C058BA01
, 3C058BA06
, 3C058BB02
, 3C058BB08
, 3C058BC02
, 3C058CA06
, 3C058CB01
, 3C058CB03
, 3C058DA18
