微細構造体の洗浄方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小谷悦司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-034337
公開番号（公開出願番号）：特開2002-237481
出願日： 2001年02月09日
公開日（公表日）： 2002年08月23日
要約：

【要約】【課題】液状の二酸化炭素に添加することで高い洗浄力を発揮する洗浄成分を見出して、優れた洗浄効果を示す洗浄方法を確立する。【解決手段】微細構造体に付着している物質を除去するための洗浄方法であって、二酸化炭素と、二酸化炭素に非相溶である洗浄成分と、相溶化剤とを必須的に含む洗浄剤組成物を、高圧下で流体状にして前記微細構造体を接触させることを特徴とする微細構造体の洗浄方法である。

請求項（抜粋）：

微細構造体に付着している物質を除去するための洗浄方法であって、二酸化炭素と、二酸化炭素に非相溶である洗浄成分と、相溶化剤とを必須的に含む洗浄剤組成物を、高圧下で流体状にして前記微細構造体を接触させることを特徴とする微細構造体の洗浄方法。

IPC (11件)：

H01L 21/304 647 , H01L 21/304 , H01L 21/304 651 , B08B 3/08 , B08B 3/10 , C11D 7/08 , C11D 7/26 , C11D 7/32 , C11D 7/60 , C11D 17/00 , F26B 5/04

FI (11件)：

H01L 21/304 647 Z , H01L 21/304 647 A , H01L 21/304 651 K , B08B 3/08 Z , B08B 3/10 Z , C11D 7/08 , C11D 7/26 , C11D 7/32 , C11D 7/60 , C11D 17/00 , F26B 5/04

Fターム (29件)：

3B201AA03 , 3B201AB01 , 3B201BB01 , 3B201BB82 , 3B201BB90 , 3B201BB92 , 3B201BB95 , 3B201BB98 , 3B201CC01 , 3B201CC15 , 3L113AA01 , 3L113AB10 , 3L113AC67 , 3L113BA34 , 3L113CB15 , 3L113DA04 , 3L113DA24 , 4H003BA12 , 4H003BA28 , 4H003DA15 , 4H003DB03 , 4H003DC03 , 4H003EA31 , 4H003EB04 , 4H003EB06 , 4H003EB14 , 4H003EB19 , 4H003EB21 , 4H003FA21

引用特許：

審査官引用 (3件)

無機汚染除去方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-208037 出願人：テキサスインスツルメンツインコーポレイテツド
化学的誘導及び抽出による無機汚染物質の除去方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-199998 出願人：テキサスインスツルメンツインコーポレイテツド
残留スラリを化学機械的に研磨して除去するプロセス
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-388283 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション

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