特許
J-GLOBAL ID：200903023334748257

基板保持装置

発明者：
楠瀬 治彦

楠瀬 治彦 について


出願人/特許権者：
レーザーテック株式会社

レーザーテック株式会社 について


代理人 (1件)： 家入 健
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-108972
公開番号（公開出願番号）：特開2003-303878
出願日： 2002年04月11日
公開日（公表日）： 2003年10月24日
要約：
【要約】【課題】表面が撓むことなく基板を保持し、基板裏面の汚染を低減することが可能な基板保持装置を提供すること。【解決手段】本発明に係る基板保持装置は、チャック2、チャック台3、真空ポンプ4、圧力レギュレータ5、加圧ポンプ6を備えている。チャック2は、上面にウエハ1を支持する第1の土手部21が設けられ、この土手部21の内側に土手部21よりも低く形成された第2の土手部22が設けられている。土手部21及び22の間には真空経路25が設けられ、土手部22の内側には気流経路26が設けられている。真空ポンプ4により空間24を減圧することで、ウエハ1を土手部21の上面に保持することができる。また、加圧ポンプ6により空間23を加圧することでウエハ1が下方に撓むことを防止でき、表面が撓むことなくウエハ1を保持することが可能である。
請求項（抜粋）：
基板の外縁部を支持する第1の土手部と、前記第1の土手部の内側に設けられ、前記第1の土手部よりも低く形成された第2の土手部と、前記第1の土手部及び前記第2の土手部の間に設けられた真空経路を介して前記基板を真空吸着する真空吸着手段と、前記第2の土手部の内側の領域を与圧する与圧手段とを備えた基板保持装置。
IPC (2件)：
H01L 21/68 ,  B23Q 3/08
FI (3件)：
H01L 21/68 P ,  H01L 21/68 M ,  B23Q 3/08 A
Fターム (11件)：
3C016DA03 ,  3C016DA11 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031HA14 ,  5F031HA59 ,  5F031JA06 ,  5F031JA21 ,  5F031JA34 ,  5F031JA35 ,  5F031PA14
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 吸着用チャック装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-097499   出願人：黒田精工株式会社, 住友シチックス株式会社
  • 基板位置決め方法及び装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-051989   出願人：国際電気株式会社
  • パターン露光装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-175059   出願人：株式会社日立製作所

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