マスク欠陥検査装置及びマスク欠陥検査方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：高田守 , 高橋英樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-197952
公開番号（公開出願番号）：特開2005-037166
出願日： 2003年07月16日
公開日（公表日）： 2005年02月10日
要約：

【課題】擬似欠陥の発生を最大限抑えながら、フォトマスク上の微細な実欠陥を検出する。【解決手段】マスクをスキャンして得られた検出画像1に対して点像分布関数(PSF)3を用いて逆畳み込み処理(デコンボルション)を行うことにより、マスクデータ4を得る。マスク設計データとしてのEBデータを欠陥検査装置用のフォーマットに変換することにより検査データを得る。マスクデータ4と検査データとを比較検査することにより、マスクの欠陥検査を行う。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

フォトマスクの欠陥を検査するマスク欠陥検査装置であって、前記フォトマスクの設計データを前記マスク欠陥検査装置用フォーマットに変換し、検査データを形成する検査データ形成部と、前記フォトマスクをスキャンして検出画像を形成する検出画像形成部と、前記検出画像に所定の処理を行って、前記フォトマスクのマスクデータを形成するマスクデータ形成部と、前記検査データと前記マスクデータとを比較して、前記フォトマスクの欠陥の有無を検査する比較検査部と、を備えたことを特徴とするマスク欠陥検査装置。

IPC (4件)：

G01N21/956 , G03F1/08 , G06T1/00 , H01L21/027

FI (4件)：

G01N21/956 A , G03F1/08 S , G06T1/00 305A , H01L21/30 502P

Fターム (25件)：

2G051AA56 , 2G051AB02 , 2G051BA05 , 2G051EA11 , 2G051EA14 , 2G051EA30 , 2G051EB09 , 2H095BB10 , 2H095BD04 , 2H095BD24 , 5B057AA03 , 5B057BA02 , 5B057CA02 , 5B057CA12 , 5B057CA16 , 5B057CB02 , 5B057CB12 , 5B057CB16 , 5B057CE06 , 5B057DA03 , 5B057DB02 , 5B057DB05 , 5B057DC22 , 5B057DC33 , 5B057DC39

引用特許：

審査官引用 (7件)

粒子ビーム検査装置および検査方法並びに粒子ビーム応用装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-193575 出願人：株式会社日立製作所
電子ビーム検査方法とそのシステム
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-124951 出願人：日本ケー・エル・エー株式会社
特開平4-341741

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