特許
J-GLOBAL ID：200903023349785434
パターン形成体およびその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
金山 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-230899
公開番号（公開出願番号）：特開2004-071432
出願日： 2002年08月08日
公開日（公表日）： 2004年03月04日
要約：
【課題】基板上の隔壁で囲まれた区域毎に、EL素子の発光層等を塗液で形成する際、従来、生じていた塗膜の厚みムラを解消し、各区域内に厚みの均一な発光層等の塗膜を形成することを課題とする。【解決手段】基板2上に両面が斜面状の非撥液性の隔壁4が形成され、隔壁4どうしの間に、塗膜厚みTの最大値と最小値が、Tmax/Tmin<130%であるよう塗膜を形成して課題を解決することができた。EL素子とする場合、第1電極3の一部を隔壁で覆うことが好ましく、また隔壁4は、下部4aと上部4bの二層構造であってもよい。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
基板上に隔壁が形成され、前記隔壁間には塗膜が積層されており、前記隔壁は表面が非撥液性であると共に、少なくとも下部において、前記基板から離れるほど前記基板と平行な方向の寸法が減少する断面形状を有し、前記塗膜は、向かい合う前記隔壁の下端間で測定した厚みの最大値(Tmax)の前記厚みの最小値(Tmin)に対する比、Tmax/Tminが130%以下であることを特徴とするパターン形成体。
IPC (4件)：
H05B33/12
, H05B33/10
, H05B33/14
, H05B33/22
H05B33/12 B
, H05B33/10
, H05B33/14 A
, H05B33/22 Z
3K007AB01
, 3K007AB18
, 3K007DB03
, 3K007EA00
