平板焼結体とその焼成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：渡邉一平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-183580
公開番号（公開出願番号）：特開2001-019562
出願日： 1999年06月29日
公開日（公表日）： 2001年01月23日
要約：

【要約】【課題】高い平面度を有するセラミックスの平板焼結体を、クラック等の欠陥を生じさせることなく安価に得られるような焼成方法を提供する。【解決手段】支柱3を介して棚組されたセッター5上にセラミックスからなる平板状の被焼成体1を載置して焼成することにより焼結体を得る平板焼結体の焼成方法である。支柱3は、焼成前には被焼成体1の厚みより厚い厚みを持ち、焼成過程において被焼成体1の焼成収縮がほぼ終了するまでは、被焼成体1の上面とその上方のセッター5の下面とを非接触状態に保ち、被焼成体1の焼成収縮がほぼ終了ししてからは、支柱3自身がそれに加わる重量圧力で高温変形して厚みを減じることによって、被焼成体1の上面とその上方のセッター5の下面とを接触状態にせしめる。

請求項（抜粋）：

支柱を介して棚組されたセッター上にセラミックスからなる平板状の被焼成体を載置して焼成することにより焼結体を得る平板焼結体の焼成方法であって、前記支柱が、焼成前には前記被焼成体の厚みより厚い厚みを持ち、焼成過程において前記被焼成体の焼成収縮がほぼ終了するまでは、前記被焼成体の上面とその上方のセッターの下面とを非接触状態に保ち、前記被焼成体の焼成収縮がほぼ終了ししてからは、前記支柱自身がそれに加わる重量圧力で高温変形して厚みを減じることによって、前記被焼成体の上面とその上方のセッターの下面とを接触状態にせしめることを特徴とする平板焼結体の焼成方法。

IPC (2件)：

C04B 35/64 , C04B 33/32

FI (2件)：

C04B 35/64 Z , C04B 33/32 T

引用特許：

審査官引用 (9件)

特開平4-144971
多層セラミック基板の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-340086 出願人：株式会社日立製作所
特開平3-088776

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