特許
J-GLOBAL ID：200903023414028905

パターン形成体の製造方法

発明者：
小林 弘典

小林 弘典 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (1件)： 山下 昭彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-182470
公開番号（公開出願番号）：特開2003-195029
出願日： 2002年06月24日
公開日（公表日）： 2003年07月09日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、パターン形成体の製造に際して、高精度にパターンを形成することが可能であり、露光後の後処理が不要で、かつ製造されたパターン形成体内に光触媒が含有されていないことから、パターン形成体自体の光触媒による影響の心配もないパターン形成体の製造方法を提供することを主目的とするものである。【解決手段】 上記目的を達成するために、本発明は、光触媒を含有する光触媒含有層および基材を有する光触媒含有層側基板と、前記光触媒含有層中の光触媒の作用により特性が変化する特性変化層およびパターン状に形成された遮光部を有するパターン形成体用基板とを、前記光触媒含有層および前記特性変化層が接触するように配置した後、パターン形成体用基板側から露光することにより、露光した部分の特性変化層の特性を変化させ、次いで光触媒含有層側基板を取り外すことにより、特性変化層上に特性の変化したパターンを有するパターン形成体を得ることを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供することにより上記課題を解決する。
請求項（抜粋）：
光触媒を含有する光触媒含有層および基材を有する光触媒含有層側基板と、前記光触媒含有層中の光触媒の作用により特性が変化する特性変化層およびパターン状に形成された遮光部を有するパターン形成体用基板とを、前記光触媒含有層および前記特性変化層が接触するように配置した後、パターン形成体用基板側から露光することにより、露光した部分の特性変化層の特性を変化させ、次いで光触媒含有層側基板を取り外すことにより、特性変化層上に特性の変化したパターンを有するパターン形成体を得ることを特徴とするパターン形成体の製造方法。
IPC (5件)：
G02B 5/20 101 ,  G02B 3/00 ,  H05K 3/00 ,  H05K 3/04 ,  H05K 3/18
FI (5件)：
G02B 5/20 101 ,  G02B 3/00 A ,  H05K 3/00 Z ,  H05K 3/04 Z ,  H05K 3/18 A
Fターム (32件)：
2H048BA02 ,  2H048BA11 ,  2H048BA45 ,  2H048BA48 ,  2H048BA60 ,  2H048BA64 ,  2H048BB02 ,  2H048BB14 ,  2H048BB22 ,  2H048BB42 ,  5E339AA01 ,  5E339AB02 ,  5E339AB05 ,  5E339BC01 ,  5E339BD03 ,  5E339BD08 ,  5E339BD14 ,  5E339BE01 ,  5E339DD02 ,  5E343AA02 ,  5E343AA12 ,  5E343AA26 ,  5E343AA34 ,  5E343AA38 ,  5E343AA39 ,  5E343BB22 ,  5E343BB71 ,  5E343CC71 ,  5E343DD33 ,  5E343EE32 ,  5E343ER01 ,  5E343GG08
引用特許：
審査官引用 (4件)
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