特許
J-GLOBAL ID：200903023421533216

成膜源、真空成膜装置、有機ELパネルの製造方法

発明者：
安彦 浩志

安彦 浩志 について

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増田 大輔

増田 大輔 について

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梅津 茂裕

梅津 茂裕 について


出願人/特許権者：
東北パイオニア株式会社

東北パイオニア株式会社 について


代理人 (2件)： 小橋 信淳 ,  小橋 立昌
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-243298
公開番号（公開出願番号）：特開2006-057173
出願日： 2004年08月24日
公開日（公表日）： 2006年03月02日
要約：
【課題】 成膜材料の混合を行うに際して成分割合の調整を容易に行うことができ、成膜領域のずれを防ぐ。【解決手段】 真空成膜装置の成膜源10が、複数の成膜材料をそれぞれ収容する複数の材料収容部11A,11Bと、各材料収容部11A,11B内の成膜材料を加熱する加熱手段12A,12Bと、成膜材料の原子流又は分子流を成膜材料毎に放出する放出口13A,13Bと、材料収容部11A,11Bと放出口13A,13Bとを気密に連通する放出流路141A,142A,143A,141B,142B,143Bとを備え、同一成膜材料を放出する単数又は複数の放出口13A,13Bを一方向に延設し、該一方向に延設された放出口13A,13Bの外縁を直線で結んで形成される帯状の放出領域S1A,S1Bが平面的に少なくとも一部で互いに重なり合うように、放出口13A,13Bを配置している。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
複数の成膜材料を加熱して昇華又は蒸発させることで生成する複数の成膜材料の原子流又は分子流を共通の被成膜面に向けて照射することで前記成膜材料を前記被成膜面上に成膜させる真空成膜装置の成膜源であって、 複数の成膜材料をそれぞれ収容する複数の材料収容部と、 各材料収容部内の成膜材料を加熱する加熱手段と、 前記成膜材料の原子流又は分子流を成膜材料毎に放出する放出口と、 前記材料収容部と前記放出口とを気密に連通する放出流路とを備え、 同一成膜材料を放出する単数又は複数の前記放出口を一方向に延設し、該一方向に延設された放出口の外縁を直線で結んで形成される帯状の放出領域が平面的に少なくとも一部で互いに重なり合うように、前記放出口を配置したことを特徴とする成膜源。
IPC (4件)：
C23C 14/24 ,  C23C 14/12 ,  H05B 33/10 ,  H01L 51/50
FI (4件)：
C23C14/24 A ,  C23C14/12 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A
Fターム (15件)：
3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029AA09 ,  4K029BA62 ,  4K029BC00 ,  4K029BC07 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029CA11 ,  4K029DB06 ,  4K029DB12 ,  4K029DB14 ,  4K029DB15 ,  4K029DB17
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (5件)
  • 蒸着装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-155383   出願人：日立造船株式会社
  • 特表昭58-500173
  • 薄膜形成装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-309127   出願人：ソニー株式会社
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