特許
J-GLOBAL ID：200903023546386746

シミ欠陥検出方法及び装置

発明者：
小島 広一

小島 広一 について

, 
市川 裕也

市川 裕也 について

, 
村上 拓史

村上 拓史 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (3件)： 木下 實三 ,  中山 寛二 ,  石崎 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-079189
公開番号（公開出願番号）：特開2006-258713
出願日： 2005年03月18日
公開日（公表日）： 2006年09月28日
要約：
【課題】 シミ欠陥を高精度に検出できるシミ欠陥検出方法及び装置を提供する。【課題手段】 シミ欠陥検出方法は、撮像した画像の各画素に対してシミ欠陥強調フィルタをかけてシミ欠陥を強調するシミ欠陥強調処理工程S5と、前記シミ欠陥強調処理工程で得られた各画素のシミ欠陥強調値に基づいてシミ欠陥を検出するシミ欠陥検出工程とを有する。シミ欠陥強調処理工程S5は、撮像画像において選択された対象画素から所定距離離れてかつ対象画素の周囲に配置された各輝度比較画素を、対象画素を挟んで対称位置に配置された2つの輝度比較画素毎のセットに分け、対象画素の輝度値と各セットの2つの輝度比較画素の平均輝度値との差の値を求め、各セットの差の値のうち、絶対値が最小となる値を対象画素のシミ欠陥強調値とする。そして、各画素のシミ欠陥強調値を所定の閾値と比較してシミ欠陥候補の画素を抽出してシミ欠陥を検出する。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
撮像した画像の各画素に対してシミ欠陥強調フィルタをかけてシミ欠陥を強調するシミ欠陥強調処理工程と、 前記シミ欠陥強調処理工程で得られた各画素のシミ欠陥強調値に基づいてシミ欠陥を検出するシミ欠陥検出工程とを有し、 前記シミ欠陥強調処理工程は、 撮像画像において選択された対象画素から所定距離離れてかつ対象画素の周囲に配置された各輝度比較画素を、前記対象画素を挟んで対称位置に配置された2つの輝度比較画素毎のセットに分け、 前記対象画素の輝度値と各セットの2つの輝度比較画素の平均輝度値との差の値を求め、各セットの差の値のうち、その絶対値が最小のものを対象画素のシミ欠陥強調値とするシミ欠陥強調フィルタを用いてシミ欠陥を強調し、 前記シミ欠陥検出工程は、前記各画素のシミ欠陥強調値を所定の閾値と比較してシミ欠陥候補の画素を抽出してシミ欠陥を検出することを特徴とするシミ欠陥検出方法。
IPC (2件)：
G01N 21/88 ,  G01M 11/00
FI (2件)：
G01N21/88 Z ,  G01M11/00 T
Fターム (12件)：
2G051AA73 ,  2G051AA90 ,  2G051AB02 ,  2G051AB20 ,  2G051AC04 ,  2G051CA04 ,  2G051CB01 ,  2G051EA12 ,  2G051ED03 ,  2G051ED15 ,  2G051GC03 ,  2G086EE10
引用特許：
出願人引用 (4件)
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