特許
J-GLOBAL ID:200903023639251247

モレキュラーシーブフィルムの調製方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中村 稔 (外7名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-532292
公開番号(公開出願番号):特表2000-507909
出願日: 1997年03月13日
公開日(公表日): 2000年06月27日
要約:
【要約】本発明はモレキュラーシーブフィルムを異なる基材の表面に適用する方法を含む。この方法は、当該モレキュラーシーブの微結晶が第一工程で単層として基材表面に結合し、次いで第二工程で、薄い連続かつ稠密のフィルムに成長させられることを特徴とする。モレキュラーシーブフィルムは膜の調製、触媒、センサー装置及びポリマー強化充填剤の如き適用分野に重要である。
請求項(抜粋):
モレキュラーシーブ微結晶を含む単層構造体の調製方法であって、 a)表面電荷を有するモレキュラーシーブの不連続微結晶を含む分散液を調製し、 b)分散液中の不連続微結晶の電荷と反対である表面電荷を有する基材を選択または調製し、 c)基材をモレキュラーシーブの不連続微結晶を含む分散液と接触させ、その結果、モレキュラーシーブの不連続微結晶を基材に単層として引きつけ、付着することを含むことを特徴とする単層構造体の調製方法。
IPC (4件):
C01B 39/02 ,  B01D 71/02 ,  C01B 33/12 ,  C01B 37/02
FI (4件):
C01B 39/02 ,  B01D 71/02 ,  C01B 33/12 ,  C01B 37/02
引用特許:
審査官引用 (6件)
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