特許
J-GLOBAL ID：200903023688169610

半導体製造装置及びその動作条件パラメータの管理方法

発明者：
永田 政也

永田 政也 について

, 
菅原 正弘

菅原 正弘 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-247464
公開番号（公開出願番号）：特開2001-075628
出願日： 1999年09月01日
公開日（公表日）： 2001年03月23日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、装置動作条件パラメータが上書きされても標準、装置出荷時及び顧客向けなどの種々のレベルの設定値に復元できる半導体製造装置の提供を目的とする。【解決手段】 本発明の半導体製造装置は、マルチチャンバ式処理システムと、対象物の搬送システムと、装置動作条件パラメータを格納する記憶装置を有し機械制御部に装置動作条件パラメータを供給する機器制御システムとにより構成され、機械制御部は機装置動作条件パラメータに基づいて処理システム及び搬送システムを制御し、機器制御システムは、装置動作条件パラメータを、装置に固有の標準的なレベルからユーザに固有の特殊なレベルまでの優先度を付けられたレベル毎に記憶装置に格納し、機器制御システムは記憶装置に格納された装置動作条件パラメータを優先度の順番にメモリに展開する。
請求項（抜粋）：
半導体製造プロセスを実行する少なくとも一つの処理チャンバを含む処理システムと、上記処理システムの上記処理チャンバに処理対象物を出し入れする搬送システムと、上記処理システム及び上記搬送システムの機械制御部に電気的に接続され、装置制御プログラム及び装置動作条件パラメータを格納する記憶装置を有し、上記機械制御部に上記装置制御プログラム及び上記装置動作条件パラメータを供給する機器制御システムとにより構成され、上記機械制御部は上記機器制御システムから供給された上記装置制御プログラム及びメモリに展開された上記装置動作条件パラメータに基づいて上記処理システム及び上記搬送システムを制御する半導体製造装置において、上記機器制御システムは、上記装置動作条件パラメータを、上記半導体製造装置に固有の標準的なレベルから上記半導体製造装置のユーザに固有の特殊なレベルまでの優先度を付けられたレベル毎に上記記憶装置に格納し、上記機器制御システムは、上記機器制御システムの上記記憶装置に格納された上記装置動作条件パラメータを、上記パラメータの組の優先度に応じて上記メモリに展開することを特徴とする、半導体製造装置。
IPC (3件)：
G05B 19/418 ,  B23Q 41/08 ,  H01L 21/02
FI (3件)：
G05B 19/418 Z ,  B23Q 41/08 Z ,  H01L 21/02 Z
Fターム (18件)：
3C042RH05 ,  3C042RJ12 ,  3C042RL11 ,  5H269AB17 ,  5H269AB33 ,  5H269BB07 ,  5H269BB11 ,  5H269EE03 ,  5H269JJ19 ,  5H269KK01 ,  5H269KK03 ,  5H269KK08 ,  5H269QC01 ,  5H269QC06 ,  9A001BZ03 ,  9A001BZ05 ,  9A001JJ48 ,  9A001KK32
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (7件)
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