特許
J-GLOBAL ID：200903023770054708
絶縁膜を有する大型シリコンウエハおよびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
鈴木 俊一郎
, 牧村 浩次
, 高畑 ちより
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-029795
公開番号（公開出願番号）：特開2008-197181
出願日： 2007年02月08日
公開日（公表日）： 2008年08月28日
要約：
【課題】本発明は、大型でかつ薄型であるシリコンウエハ上に絶縁膜を形成する方法であって、絶縁膜形成後の反り量が少ない、絶縁膜を有する大型シリコンウエハの製造方法、ならびにその製造方法で得られる大型シリコンウエハを提供することを課題としている。【解決手段】本発明の絶縁膜を有する大型シリコンウエハの製造方法は、(i)(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)架橋剤および(C)感放射線性酸発生剤を含有し、絶縁膜を形成し得る感光性樹脂組成物を、直径が8インチ以上であり、厚さが200〜800μmであるシリコンウエハ上に塗布する工程と、(ii)溶剤を加熱により揮発させる工程と、(iii)露光する工程と、(iv)アルカリにより現像する工程と、(v)加熱により硬化する工程とを含むことを特徴としている。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(i)(A)フェノール性水酸基を有するラジカル重合性モノマーの単独重合体(A1)
、該ラジカル重合性モノマーとその他のラジカル重合性モノマーとの共重合体(A2)、およびフェノール類とアルデヒド類とを酸触媒存在下で重縮合して得られたノボラック樹脂(A3)から選ばれるアルカリ可溶性樹脂、(B)架橋剤、および(C)感放射線性酸発生剤を含有し、絶縁膜を形成し得る感光性樹脂組成物を、直径が8インチ以上であり、厚さが200〜800μmであるシリコンウエハ上に塗布する工程と、
(ii)溶剤を加熱により揮発させる工程と、
(iii)露光する工程と、
(iv)アルカリにより現像する工程と、
(v)100°C以上250°C以下の加熱により硬化する工程と
を含むことを特徴とする絶縁膜を有する大型シリコンウエハの製造方法。
IPC (6件)：
G03F 7/032
, H01L 21/312
, C08K 5/00
, C08L 101/06
, C08L 61/06
, G03F 7/004
G03F7/032
, H01L21/312 C
, H01L21/312 D
, C08K5/00
, C08L101/06
, C08L61/06
, G03F7/004 501
2H025AA20
, 2H025AB16
, 2H025AC01
, 2H025AD01
, 2H025AD03
, 2H025BE01
, 2H025BE08
, 2H025CB16
, 2H025CB17
, 2H025CB29
, 2H025CC08
, 2H025CC17
, 2H025FA12
, 2H025FA17
, 2H025FA29
, 4J002BC041
, 4J002BC121
, 4J002CD012
, 4J002EL026
, 4J002EU186
, 4J002FD142
, 4J002FD146
, 4J002GQ01
, 5F058AA10
, 5F058AC03
, 5F058AC07
, 5F058AD05
, 5F058AD08
, 5F058AF04
, 5F058AG01
, 5F058AG09
, 5F058AG10
, 5F058AH02
, 5F058BD19
