特許
J-GLOBAL ID:200903092649847085
ポジ型感光性樹脂組成物
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-324108
公開番号(公開出願番号):特開平11-237736
出願日: 1998年11月13日
公開日(公表日): 1999年08月31日
要約:
【要約】【課題】 現像時において高い残膜率が得られ、保護膜および層間絶縁膜として極めて優れた機械的特性を有するポジ型の感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 式(I)で示されるポリベンゾオキサゾール前駆体と式(II)で示されるナフトキノンジアジド化合物からなることを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。【化1】【化2】
請求項(抜粋):
式(I)で示されるポリベンゾオキサゾール前駆体と式(II)で示されるナフトキノンジアジド化合物からなることを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。【化1】【化2】
IPC (5件):
G03F 7/022 601
, C08G 73/12
, C08G 73/22
, G03F 7/039 501
, H01L 21/027
FI (5件):
G03F 7/022 601
, C08G 73/12
, C08G 73/22
, G03F 7/039 501
, H01L 21/30 502 R
引用特許:
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