ウェーハ処理用シリコン固定具およびその製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：萩原誠
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-612987
公開番号（公開出願番号）：特表2002-542621
出願日： 2000年04月06日
公開日（公表日）： 2002年12月10日
要約：

【要約】熱処理中に複数のシリコン・ウェーハを取外し可能に支持するシリコン・タワー。タワーの1つの好適な実施形態は、2つのベースに、その端部で固定される4本の脚部を含む。複数のスロットを脚部に形成し、ウェーハをスライド可能に挿入し、支持できる。脚部は、好適には、スロットが形成され小さな半径を有する湾曲した前面と、かなり大きい半径を有する湾曲した後面を含む丸みを帯びた楔形をしていることが好ましい。好適には、脚部は、未処理ポリシリコンの丸い棒から機械加工で作ることが好ましい。ベースは、未処理ポリであっても、単結晶シリコンであってもよい。エネルギーを供給することにより、ベースに脚部を融合させる方法を含めて、ベースに脚部を固定するために種々の取付け方法を使用することができる。

請求項（抜粋）：

複数のウェーハを支持するためのシリコン・タワーであって、シリコンから構成される2つのベースと、未処理ポリシリコンから構成される第1の複数の脚部とを備え、前記脚部はその2つの端部で前記2つのベースに固定され、複数のウェーハを取外し可能に支持することを特徴とするシリコン・タワー。

IPC (4件)：

H01L 21/68 , H01L 21/205 , H01L 21/22 501 , H01L 21/22 511

FI (4件)：

H01L 21/68 N , H01L 21/205 , H01L 21/22 501 M , H01L 21/22 511 G

Fターム (7件)：

5F031CA02 , 5F031HA62 , 5F031HA63 , 5F031HA64 , 5F045BB14 , 5F045EM08 , 5F045EM09

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開平4-304652
シリコンウエハ支持装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-084850 出願人：三菱マテリアル株式会社
窒化ケイ素繊維強化シリコン材及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-100240 出願人：東芝セラミックス株式会社

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