特許
J-GLOBAL ID：200903023802008614
載置台、処理装置及び処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-199377
公開番号（公開出願番号）：特開2004-285469
出願日： 2003年07月18日
公開日（公表日）： 2004年10月14日
要約：
【課題】載置台上に薄膜を形成して載置台を熱的に安定化させることにより、成膜プロセスの再現性を良好にすることができる処理装置を提供する。【解決手段】真空引き可能になされた処理容器4と、該処理容器内に設けられて被処理体Wを載置するための載置台16と、前記被処理体を加熱する加熱手段18と、前記処理容器内へ所定の処理ガスを導入するガス導入手段30と、を有して前記被処理体に対して成膜処理を施すようにした処理装置において、前記載置台の温度を実質的に略一定とした時にその膜厚が変化しても前記載置台からの輻射熱量が略一定になるような範囲内の厚さで、前記載置台の表面にプリコート層28を形成するように構成する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
真空引き可能になされた処理容器内にて成膜処理を施す被処理体を載置するための載置台において、
前記被処理体を加熱する加熱手段と、
前記載置台の温度を実質的に略一定とした時にその膜厚が変化しても前記載置台からの輻射熱量が略一定になるような範囲内の厚さで、前記載置台の表面にプリコート層を形成するように構成したことを特徴とする載置台。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C16/44 J
, H01L21/285 C
4K030AA03
, 4K030AA13
, 4K030BA18
, 4K030BA38
, 4K030CA02
, 4K030CA04
, 4K030DA06
, 4K030FA01
, 4K030FA10
, 4K030HA03
, 4K030JA01
, 4K030KA47
, 4K030LA15
, 4M104BB14
, 4M104DD44
, 4M104DD45
, 4M104HH16
, 4M104HH20
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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