特許

J-GLOBAL ID：200903023850478746

水溶性感光性組成物

発明者： 後河内 透 ,  仁木 博一 ,  信田 直美 ,  内藤 卓哉 ,  中瀬 真 ,  浅川 鋼児 ,  本宮 明典
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-043623
公開番号（公開出願番号）：特開平7-253668
出願日： 1994年03月15日
公開日（公表日）： 1995年10月03日
要約：

【要約】【構成】a)光または電離放射線の照射によって酸を発生する水溶性化合物およびb)下記式(1)並びに(2)で表わされる繰り返し単位を有する、少なくとも1種の水溶性高分子を含有する水溶性感光性組成物、並びにa)光または電離放射線の照射によって酸を発生する水溶性化合物およびb)ポリビニルアルコール共重合体を含有し、金属イオンの含有量が全固形分に対して 1000 ppm以下である水溶性感光性組成物。を含有。【化1】(ここで、R1 は水素原子または一価の有機基を表わす)【効果】有機溶媒を用いることなく水で現像可能であり、かつ有害な物質を用いることなくレジストとしての使用に十分な感度を有する。したがって、人体にとって安全であり、環境を汚染することもない。

請求項（抜粋）：

a)光または電離放射線の照射によって酸を発生する水溶性化合物、およびb)下記式(1)並びに(2)で表わされる繰り返し単位を有する、少なくとも1種の水溶性高分子を含有する水溶性感光性組成物。【化1】(ここで、R1 は水素原子または一価の有機基を表わす)

IPC (7件)：

G03F 7/038 505 ,  C08F 16/06 MKV ,  C08F 16/38 MLC ,  C08L 29/04 LGT ,  C08L 29/14 LHA ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 感光性組成物及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-000971   出願人：ソニー株式会社
• 不純金属成分の低減された感電離放射線性樹脂組成物の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-258823   出願人：富士写真フイルム株式会社, 富士ハントエレクトロニクステクノロジ-株式会社
• フォトレジスト組成物用容器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-229114   出願人：三菱化成株式会社