薄膜及び微細構造体の製造方法、並びに薄膜及び微細構造体

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：上柳雅誉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-105999
公開番号（公開出願番号）：特開2001-286818
出願日： 2000年04月07日
公開日（公表日）： 2001年10月16日
要約：

【要約】【課題】機能性の溶質が液体状態と同等もしくはそれ以上の高分散かつ等方的状態を有する膜およびその製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】基板3上に機能を発現する溶質2、3を含む塗布液を適用し、その塗布液中の溶媒が蒸発する前に、エネルギー線を照射することにより、高分散かつ等方的状態を作り出し、同時に膜化する事を特徴とする。特に、前記塗布液適用方法がインク吐出法によるとき、前記高分散かつ等方的状態を有する膜を好適に得る。

請求項（抜粋）：

基板に薄膜を形成する方法において、前記薄膜を形成するための溶液を該基板に適用しこの溶液を膜化する際に、前記基板にエネルギー線を照射することを特徴とする薄膜の製造方法。

IPC (4件)：

B05D 3/06 , B05D 7/00 , H05B 33/10 , H05B 33/14

FI (5件)：

B05D 3/06 Z , B05D 7/00 E , B05D 7/00 H , H05B 33/10 , H05B 33/14 A

Fターム (17件)：

3K007AB03 , 3K007AB04 , 3K007AB06 , 3K007AB18 , 3K007CA01 , 3K007CA05 , 3K007CB01 , 3K007DA01 , 3K007DB03 , 3K007EB00 , 3K007FA01 , 3K007FA03 , 4D075BB37Y , 4D075BB48Y , 4D075DA06 , 4D075DB13 , 4D075DC21

引用特許：

審査官引用 (13件)

特開平3-258370
特開昭56-031472
日射遮蔽膜およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-100432 出願人：大日本印刷株式会社

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