特許
J-GLOBAL ID：200903023963362868

静電吸着装置、基板搬送装置、真空処理装置及び基板保持方法

発明者：
前平 謙

前平 謙 について

, 
不破 耕

不破 耕 について


出願人/特許権者：
株式会社アルバック

株式会社アルバック について


代理人 (1件)： 石島 茂男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-176200
公開番号（公開出願番号）：特開2001-358193
出願日： 2000年06月13日
公開日（公表日）： 2001年12月26日
要約：
【要約】【課題】静電吸着装置に関し、特に、絶縁性基板を静電吸着した状態で基板の表面や裏面に傷がつかないようにする技術を提供する。【解決手段】本発明の静電吸着装置23は、矩形枠体25を有し、その内周面に第1、第2の電極271、272が配置され、吸着面24を形成しており、この吸着面24が、基板11の側面と当接するように構成されている。このため、第1、第2の電極271、272の間に電圧を印加すると、各電極271、272の間にグラディエント力が生じ、基板11の側面が吸着面24に静電吸着される。従って、静電吸着された状態では、基板11の表面や裏面は静電吸着装置23のどこにも接していないので、基板11が例えば熱膨張した場合であっても、基板11の表面や裏面が静電吸着装置23と擦れることはなく、基板11の表面や裏面には傷がつかない。
請求項（抜粋）：
基体と、前記基体に設けられた第1、第2の電極とを有する静電吸着装置であって、前記第1、第2の電極が位置する吸着面は、吸着対象である基板の側面に対して平行に配置された静電吸着装置。
IPC (5件)：
H01L 21/68 ,  B25J 15/06 ,  B65G 49/06 ,  B65G 49/07 ,  H01L 21/203
FI (6件)：
H01L 21/68 A ,  H01L 21/68 R ,  B25J 15/06 Z ,  B65G 49/06 A ,  B65G 49/07 E ,  H01L 21/203 S
Fターム (21件)：
3F061AA01 ,  3F061CA00 ,  3F061DB04 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031FA02 ,  5F031FA07 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA30 ,  5F031GA32 ,  5F031GA49 ,  5F031HA05 ,  5F031HA18 ,  5F031HA33 ,  5F031MA29 ,  5F031NA05 ,  5F103AA08 ,  5F103BB33 ,  5F103BB36 ,  5F103PP20
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (7件)
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