特許
J-GLOBAL ID：200903024023928169

トラッキング制御方法および電子ビーム描画システム

発明者：
井上 英郎

井上 英郎 について


出願人/特許権者：
株式会社ニューフレアテクノロジー

株式会社ニューフレアテクノロジー について


代理人 (1件)： 大阿久 敦子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-304096
公開番号（公開出願番号）：特開2009-128669
出願日： 2007年11月26日
公開日（公表日）： 2009年06月11日
要約：
【課題】ショット処理過程でリアルタイムにアボートを回避するために、最適なサブフィールドの分割数を確実に算出するトラッキング制御方法を提供することを課題とする。【解決手段】サブフィールド上でショットする位置データと全ショット数データと全ショットの所要時間データ及びステージの位置を特定するステージデータから、主偏向器の制御データを算出し、前記全ショットの所要時間を前記サブフィールドで実際にショット可能な時間単位に分割して算出された分割サブフィールド数と、前記全ショット数をこの分割サブフィールド数で除算して得られた分割ショット数とを算出し、ショット処理を開始後、前記算出された分割ショット数に達すると、前記ステージの移動方向に従って次の分割サブフィールドに移行するトラッキング制御方法を提供する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
電子ビーム描画装置のステージにマスクブランクを載置し、このステージを連続的に移動させ、前記マスクブランクのサブフィールド上にショットする電子ビームを主偏向器で前記ステージの移動に追従させるように偏向させるトラッキング制御方法であって、前記サブフィールド上における電子ビームのショット位置を特定する位置データとこのサブフィールドの全ショット数データとこの全ショットの所要時間データとを読み込むステップと、前記トラッキング制御を行なうステージの位置を示すステージデータを読み込むステップと、前記マスクブランクが描画可能な領域に到達すると、前記位置データ及びステージデータから主偏向器の制御データを算出するステップと、前記全ショットの所要時間を前記サブフィールドで実際にショット可能な時間単位に分割して算出された分割サブフィールド数と、前記全ショット数をこの分割サブフィールド数で除算して得られた分割ショット数とを算出するステップと、主偏向のセトリング後、この分割サブフィールド内のショット開始とともにショット数をカウントし、前記分割ショット数に達すると、前記ステージの移動方向に従って次の分割サブフィールドに移行するトラッキング処理を行なうステップとを備え、以後、前記分割サブフィールド数に達するまで、前記ステージデータを読み込んで、前記制御データを算出し、主偏向セトリング後に順次前記トラッキング処理を繰り返すことを特徴とするトラッキング制御方法。
IPC (3件)：
G03F 1/08 ,  H01L 21/027 ,  H01J 37/305
FI (3件)：
G03F1/08 B ,  H01L21/30 541J ,  H01J37/305 B
Fターム (9件)：
2H095BB10 ,  2H095BB33 ,  5C034BB10 ,  5F056AA13 ,  5F056CB13 ,  5F056CB14 ,  5F056CB23 ,  5F056CD01 ,  5F056EA06
引用特許：
出願人引用 (4件)
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