特許
J-GLOBAL ID：200903024097565378
リソグラフィ処理セル、リソグラフィ装置、トラック、及びデバイス製造法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 森 徹
, 吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-329761
公開番号（公開出願番号）：特開2005-142576
出願日： 2004年10月15日
公開日（公表日）： 2005年06月02日
要約：
【課題】欠陥ウェハをより効率的に、及び/又は、より速く再処理できるリソグラフィ処理セル、リソグラフィ装置、トラック、及びデバイス製造法。【解決手段】ロットが入出力ポートI/O1を介して積載され、次に基体はスピン塗布機SCにより塗布され、リソグラフィ装置LAにより露光され、次に現像機DEにより現像される。現像済みの基体はその後統合測定装置IMにより測定もしくは検査され合格した基体は入出力ポートI/O2に送られ、そこで処理済みのロットは別のプロセスに移送される前に組み立てられる。検査で不合格となった基体は例えば、1つ又は複数の欠陥が検出される時は再加工ステーションRWへ分岐させられる。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
基体をパターンで露光するためのリソグラフィ装置と、
基体を処理するための1つ又は複数の処理装置を有するトラックと、
前記リソグラフィ装置及び前記トラック・ユニットを制御するための監視制御システムとを備え、
前記リソグラフィ処理セルは、基体の露光中又は処理中の異常発生を報告するようになっており、また前記監視制御システムは、前記異常発生が検出された露光中又は処理中に基体を再加工するために前記リソグラフィ処理セルに設けられた再加工ステーションを制御するようになっていることを特徴とするリソグラフィ処理セル。
IPC (1件)：
FI (2件)：
H01L21/30 562
, H01L21/30 570
5F046AA18
, 5F046AA28
, 5F046DD06
