特許
J-GLOBAL ID：200903024322421011

インプリントモールド

発明者：
佐野 尚武

佐野 尚武 について

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有塚 祐樹

有塚 祐樹 について

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法元 盛久

法元 盛久 について

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藤田 浩

藤田 浩 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (2件)： 三好 秀和 ,  伊藤 正和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-185659
公開番号（公開出願番号）：特開2009-023113
出願日： 2007年07月17日
公開日（公表日）： 2009年02月05日
要約：
【課題】非パターン領域からの光漏れを防止し、被転写膜表面への異物の付着を抑制することが可能なインプリントモールドを提供する。【解決手段】パターン領域を被転写膜に押し当て、光照射により被転写膜を硬化してパターンを転写するインプリントモールド1であって、パターン領域12が設けられた第1主面、及び第1主面に対向する第2主面を有する基板10と、第1主面に設けられ、パターン領域12の外周に沿った第1遮光膜20と、第2主面に設けられ、パターン領域12に対向する領域を含む開口部24を有し、一部が第1遮光膜20に対向する第2遮光膜22とを備え、基板10に垂直な断面において、被転写膜を硬化する光の第2主面に対する最大入射角が、開口部24に接する側の第2遮光膜22の一端と、パターン領域12から最も遠い側の第1遮光膜20の一端とを結ぶ線が第2主面の垂線に対して成す角より小さい。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
パターン領域を被転写膜に押し当て、光照射により前記被転写膜を硬化してパターンを転写するインプリントモールドであって、 前記パターン領域が設けられた第1主面、及び前記第1主面に対向する第2主面を有する透明材料からなる基板と、 前記第1主面に設けられ、前記パターン領域の外周に沿った第1遮光膜と、 前記第2主面に設けられ、前記パターン領域に対向する領域を含む開口部を有し、一部が前記第1遮光膜に対向する第2遮光膜とを備え、 前記基板に垂直な断面において、前記被転写膜を硬化する光の前記第2主面に対する最大入射角が、前記開口部に接する側の前記第2遮光膜の一端と、前記パターン領域から最も遠い側の前記第1遮光膜の一端とを結ぶ線が前記第2主面の垂線に対して成す角より小さいことを特徴とするインプリントモールド。
IPC (2件)：
B29C 59/02 ,  H01L 21/027
FI (2件)：
B29C59/02 B ,  H01L21/30 502D
Fターム (18件)：
4F209AA43 ,  4F209AA44 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AH73 ,  4F209AJ03 ,  4F209AJ06 ,  4F209AJ08 ,  4F209AJ09 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PN06 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11 ,  5F046AA28
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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