特許
J-GLOBAL ID：200903038594246236

転写用の型および転写方法

発明者：
小久保 光典

小久保 光典 について

, 
萩原 明彦

萩原 明彦 について

, 
石橋 健太郎

石橋 健太郎 について


出願人/特許権者：
東芝機械株式会社

東芝機械株式会社 について


代理人 (7件)： 三好 秀和 ,  岩▲崎▼ 幸邦 ,  中村 友之 ,  川又 澄雄 ,  伊藤 正和 ,  高橋 俊一 ,  高松 俊雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-223791
公開番号（公開出願番号）：特開2008-044289
出願日： 2006年08月21日
公開日（公表日）： 2008年02月28日
要約：
【課題】転写用の型に形成されている微細な転写パターンを被成形品に転写する転写方法に使用される型において、被成形品に形成される残膜を無くし正確な転写を行うことができる型を提供する。【解決手段】所定の波長の電磁波が透過する材料で平板状に形成され、厚さ方向の一方の面21に凹部23を設けることによって微細な転写パターン5を形成してある転写用の型3において、一方の面21のうちで、凹部23以外の平面には、前記所定の波長の電磁波を遮る膜25が形成されている。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
所定の波長の電磁波が透過する材料で平板状に形成され、厚さ方向の一方の面に凹凸部を設けることによって微細な転写パターンを形成してある転写用の型において、 前記一方の面のうちで、前記凹部以外の平面には、前記所定の波長の電磁波を遮る膜が形成されていることを特徴とする転写用の型。
IPC (5件)：
B29C 33/38 ,  B29C 59/02 ,  B29C 39/26 ,  B29C 39/02 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
B29C33/38 ,  B29C59/02 B ,  B29C39/26 ,  B29C39/02 ,  H01L21/30 502D
Fターム (31件)：
4F202AA44 ,  4F202AF01 ,  4F202AJ02 ,  4F202AJ06 ,  4F202AJ09 ,  4F202AK03 ,  4F202CA01 ,  4F202CA09 ,  4F202CA19 ,  4F202CB01 ,  4F202CD24 ,  4F202CN01 ,  4F202CN17 ,  4F204AA44 ,  4F204AC05 ,  4F204AF01 ,  4F204AG05 ,  4F204EA03 ,  4F204EB01 ,  4F204EB11 ,  4F204EK18 ,  4F204EK24 ,  4F209AA44 ,  4F209AG01 ,  4F209AG05 ,  4F209AJ08 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11 ,  5F046BA10
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 微小型押成形装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-190094   出願人：株式会社エリオニクス
審査官引用 (6件)
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