フォトレジストコーティング装置及び方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：萩原誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-110864
公開番号（公開出願番号）：特開平11-054430
出願日： 1998年04月21日
公開日（公表日）： 1999年02月26日
要約：

【要約】【課題】フォトレジストを噴射するノズルを移動させるとともに回転チャックの回転速度を加変することで、少量のフォトレジストでもウェーハ上に十分なコーティング膜質を形成可能なフォトレジストコーティング装置及び方法を提供すること。【解決手段】ノズルをウェーハの辺部から中心部に移動しながらフォトレジストを噴射させ、ノズルの噴射位置が中心部に向かうほどウェーハの回転速度を増速させる。このように、フォトレジストをウェーハ上にコーティングするようにフォトレジストコーティング装置を構成している。これにより、フォトレジストをウェーハ上にコーティングするときに消費されるフォトレジストの量を半分以下に減らすことができ、経済的な負担や環境汚染問題に関しても貢献することができる。

請求項（抜粋）：

ノズルを通してフォトレジストを噴射し、回転チャック上で回転されるウェーハに前記フォトレジストをコーティングするフォトレジストコーティング装置において、前記ノズルを前記ウェーハの辺部から中心部方向に移動させてコーティングを行うノズル駆動手段;前記ノズルの位置毎に回転速度が異なるように前記回転チャックを回転させるモータ;及び前記ノズル駆動手段によって前記ウェーハの辺部から中心部に移動される前記ノズルの位置を確認し、前記モータの回転速度をこのノズルの位置に応じて段階的に増速させる制御手段;とを備えることを特徴とするフォトレジストコーティング装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , B05C 11/08 , B05D 1/40 , G03F 7/16 502

FI (5件)：

H01L 21/30 564 C , B05C 11/08 , B05D 1/40 A , G03F 7/16 502 , H01L 21/30 564 D

引用特許：

出願人引用 (9件)

特開平2-191570
特開平4-188611
特開平4-271113

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審査官引用 (15件)

特開平4-188611
特開平4-188611
特開平4-271113

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