原子状ラジカル測定方法及び装置

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：伊藤研一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-295504
公開番号（公開出願番号）：特開2000-123996
出願日： 1998年10月16日
公開日（公表日）： 2000年04月28日
要約：

【要約】【課題】測定される反応性プラズマ中における機能ガス原子ラジカル密度に基づいてプロセス処理を高い再現性で、高精度及びリアルタイムに制御することができる原子状ラジカル測定方法及びその装置の提供。【解決手段】原料ガスをプラズマ化して被処理体に原料ガス成分の薄膜を成膜したり、被処理体をエッチング処理する際に、プラズマ化した原料ガスに対して原子光発生装置から原子光を照射し、プラズマ透過前の基準原子光の強度とプラズマを透過した原子光線の強度に基づいてプラズマ中における原子状ラジカル密度を測定する。原子光発生装置の容器内に、一部に所定の内径からなる孔が形成された陰極板を設ける。容器内における少なくとも上記ガス中の被測定原子を含むガス及び希釈ガスを所定の圧力にする。陰電極及び先端部が陰電極の孔に近接して設けられた陽電極に電圧を印加して陰電極の孔内にて上記ガスをプラズマ化して発光させて所望の原子光を得る。

請求項（抜粋）：

原料ガスをプラズマ化して被処理体に原料ガス成分の薄膜を成膜したり、被処理体をエッチング処理する際に、プラズマ化した原料ガスに対して原子光発生装置から原子光を照射し、プラズマ透過前の基準原子光の強度とプラズマを透過した原子光線の強度に基づいてプラズマ中における原子状ラジカル密度を測定する方法において、原子光発生装置は容器内に、一部に所定の内径からなる孔が形成された陰極板を設け、容器内における少なくとも上記ガス中の被測定原子を含むガス及び希ガスを所定の圧力にし、陰電極及び先端部が陰電極の孔に近接して設けられた陽電極に電流を印加して陰電極の孔内にて上記ガスをプラズマ化して発光させることにより生成される所望原子光を得ることを特徴とする原子状ラジカル測定方法。

IPC (4件)：

H05H 1/00 , H01L 21/205 , H01L 21/3065 , H05H 1/46

FI (4件)：

H05H 1/00 A , H01L 21/205 , H05H 1/46 A , H01L 21/302 A

Fターム (48件)：

5F004AA16 , 5F004BA14 , 5F004BA20 , 5F004BB11 , 5F004BB13 , 5F004BB14 , 5F004BB18 , 5F004BB22 , 5F004BB25 , 5F004BB26 , 5F004CB02 , 5F004DA00 , 5F004DA01 , 5F004DA02 , 5F004DA03 , 5F004DA06 , 5F004DA07 , 5F004DA08 , 5F004DA09 , 5F004DA10 , 5F004DA24 , 5F004DB03 , 5F045AA08 , 5F045AA10 , 5F045AB03 , 5F045AB07 , 5F045AB32 , 5F045AB33 , 5F045AC01 , 5F045AC15 , 5F045AC16 , 5F045AC17 , 5F045AF08 , 5F045DP01 , 5F045DP02 , 5F045DP03 , 5F045DQ10 , 5F045EH02 , 5F045EH09 , 5F045EH11 , 5F045EH17 , 5F045EJ01 , 5F045EJ02 , 5F045EJ03 , 5F045EJ09 , 5F045EK01 , 5F045EM05 , 5F045GB08

引用特許：

審査官引用 (2件)

プラズマ処理装置における炭素原子ラジカル測定用炭素原子光発生装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-295513 出願人：後藤俊夫, 日本レーザ電子株式会社
炭素原子による成膜及びエッチング処理方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-257617 出願人：後藤俊夫, 日本レーザ電子株式会社

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