特許

J-GLOBAL ID：200903024421634612

フォトレジスト用重合性不飽和化合物、及びフォトレジスト用樹脂組成物

発明者： 堤 聖晴 ,  新井 隆 ,  津野 真澄 ,  道津 邦彦
出願人/特許権者： ダイセル化学工業株式会社
代理人 (1件)： 後藤 幸久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-346958
公開番号（公開出願番号）：特開2001-166481
出願日： 1999年12月06日
公開日（公表日）： 2001年06月22日
要約：

【要約】【課題】 経時変化をしない安定なフォトレジスト用高分子化合物を得るのに適したフォトレジスト用重合性不飽和化合物を得る。【解決手段】 フォトレジスト用重合性不飽和化合物は、フォトレジスト用高分子化合物の単量体として使用される重合性不飽和化合物であって、酸価が200(mg-KOH/g)以下であることを特徴とする。前記重合性不飽和化合物には、例えば、下記式(1)【化1】[式中、Raは水素原子又はメチル基、Rb、Rcは、同一又は異なって、水素原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基を示す。Rb及びRcは互いに結合して隣接する炭素原子とともに置換基を有していてもよい脂環式炭化水素環を形成してもよい。Xは連結基を示し、環Zは置換基を有していてもよい単環又は多環の芳香族又は脂環式炭化水素環を示す。i、j及びkは、それぞれ0又は1を示す]で表される化合物などが含まれる。

請求項（抜粋）：

フォトレジスト用高分子化合物の単量体として使用される重合性不飽和化合物であって、酸価が200(mg-KOH/g)以下であることを特徴とするフォトレジスト用重合性不飽和化合物。

IPC (4件)：

G03F 7/039 601 ,  C07C 69/54 ,  C08F 20/16 ,  C08F 20/26

FI (4件)：

G03F 7/039 601 ,  C07C 69/54 B ,  C08F 20/16 ,  C08F 20/26

Fターム (61件)：

2H025AA11 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  2H025CB51 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB46 ,  4H006AB76 ,  4H006BA95 ,  4H006BJ30 ,  4H006BN20 ,  4J100AG10P ,  4J100AG15P ,  4J100AG24P ,  4J100AL08P ,  4J100AL16P ,  4J100AM21P ,  4J100AN02P ,  4J100AN05P ,  4J100BA02P ,  4J100BA03P ,  4J100BA04P ,  4J100BA05P ,  4J100BA06P ,  4J100BA10P ,  4J100BA11P ,  4J100BA15P ,  4J100BA16P ,  4J100BA20P ,  4J100BA29P ,  4J100BA30P ,  4J100BA31P ,  4J100BA40P ,  4J100BA41P ,  4J100BB01P ,  4J100BB03P ,  4J100BB05P ,  4J100BB07P ,  4J100BC01P ,  4J100BC03P ,  4J100BC04P ,  4J100BC07P ,  4J100BC08P ,  4J100BC12P ,  4J100BC27P ,  4J100BC43P ,  4J100BC49P ,  4J100BC53P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100DA29 ,  4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 第3級アルコールエステル及びレジスト材料の調製方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-350765   出願人：富士通株式会社
• 特開昭63-033350
  
• 2-アダマンチル(メタ)アクリレート類の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-042474   出願人：住友化学工業株式会社
• 化学増幅型ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-238542   出願人：住友化学工業株式会社
• レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-050264   出願人：富士通株式会社