特許
J-GLOBAL ID：200903024472281331
スパッタ装置、スパッタ方法、有機EL発光素子の製造装置および有機EL発光素子の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
谷 義一
, 阿部 和夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-378804
公開番号（公開出願番号）：特開2005-142079
出願日： 2003年11月07日
公開日（公表日）： 2005年06月02日
要約：
【課題】 劣化しやすい有機EL層のダメージを最小限にして、上部の透明電極をスパッタ法により形成するためのスパッタ装置、成膜方法、該装置を用いた有機EL発光素子の製造装置および有機EL発光素子の製造方法の提供。【解決手段】 真空槽中に、少なくとも電極、ターゲット、基板および基板を保持する基板ホルダーを含むトップエミッション型有機EL発光素子の透明電極作製用スパッタ装置において、前記装置が有害物を基板に寄せ付けない手段を有し、前記手段が、a)基板ホルダーにバイアスを印加する手段、b)基板と電極の間に、遮蔽板を設け、この遮蔽板にバイアスを印加する手段、およびc)基板と電極の間に、基板と平行に磁界を印加する手段から選択される1つまたは複数の手段を含むことを特徴とするスパッタ装置。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
真空槽中に、少なくとも電極、ターゲット、基板および基板を保持する基板ホルダーを含むトップエミッション型有機EL発光素子の透明電極作製用スパッタ装置において、前記装置が有害物を基板に寄せ付けない手段を有し、前記手段が、
a)基板ホルダーにバイアスを印加する手段、
b)基板と電極の間に、遮蔽板を設け、この遮蔽板にバイアスを印加する手段、および
c)基板と電極の間に、基板と平行に磁界を印加する手段
から選択される1つまたは複数の手段を含むことを特徴とするスパッタ装置。
IPC (4件)：
H05B33/10
, C23C14/34
, C23C14/35
, H05B33/14
H05B33/10
, C23C14/34 S
, C23C14/35 E
, H05B33/14 A
3K007AB05
, 3K007AB11
, 3K007AB12
, 3K007AB13
, 3K007AB18
, 3K007DB03
, 3K007FA01
, 4K029CA05
, 4K029DC39
