マイクロ波プラズマ処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：宮川貞二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-341906
公開番号（公開出願番号）：特開2000-173797
出願日： 1998年12月01日
公開日（公表日）： 2000年06月23日
要約：

【要約】【課題】被処理物である基板の直径が大きくても装置全体のサイズを可及的に小さくでき、小さなスペースに設置することができ、さらに確実に均一なプラズマ処理を行うことができるマイクロ波プラズマ処理装置を提供する。【解決手段】プラズマを用いて処理される試料を収容する処理容器と;処理容器を封止し、かつプラズマを生成するマイクロ波を透過させて処理容器内に導入する封止部材と;マイクロ波を導入するマイクロ波導入口が周側面に開設される環状の管状部材と;管状部材と封止部材との間に、封止部材及び管状部材に対向して配設され、マイクロ波が通過する所定のスリットが開設されたスリット板とを備え;管状部材は、管状部材内を伝播するマイクロ波に定在波を生じさせ;定在波による電界強度の相対的に強い領域が、管状部材の径方向に複数分布し、かつ略同心円上に分布するように構成されていることを特徴とする;マイクロ波プラズマ処理装置とする。

請求項（抜粋）：

プラズマを用いて処理される試料を収容する処理容器と;前記処理容器を封止し、かつ前記プラズマを生成するマイクロ波を透過させて前記処理容器内に導入する封止部材と;前記マイクロ波を導入するマイクロ波導入口が周側面に開設される環状の管状部材と;前記管状部材と前記封止部材との間に、前記封止部材及び前記管状部材に対向して配設され、前記マイクロ波が通過する所定のスリットが開設されたスリット板とを備え;前記管状部材は、前記管状部材内を伝播するマイクロ波に定在波を生じさせ;前記定在波による電界強度の相対的に強い領域が、前記管状部材の径方向に複数分布し、かつ略同心円上に分布するように構成されていることを特徴とする;マイクロ波プラズマ処理装置。

IPC (4件)：

H05H 1/46 , C23C 16/511 , C23F 4/00 , H01L 21/3065

FI (4件)：

H05H 1/46 B , C23C 16/50 E , C23F 4/00 , H01L 21/302 B

Fターム (11件)：

4K030FA01 , 4K030KA30 , 4K030KA45 , 4K057DA11 , 4K057DD01 , 4K057DM29 , 4K057DM40 , 4K057DN01 , 5F004AA01 , 5F004BB14 , 5F004BD03

引用特許：

審査官引用 (5件)

プラズマ処理方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-036521 出願人：株式会社日立製作所
特開平3-019332
プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-046821 出願人：株式会社日立製作所

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