特許
J-GLOBAL ID：200903024573594560
リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 吉田 裕
, 森 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-173228
公開番号（公開出願番号）：特開2007-004175
出願日： 2006年06月23日
公開日（公表日）： 2007年01月11日
要約：
【課題】基板サイズが増大しても露光の際に正確に基板を位置決め可能なリソグラフィ装置を提供すること。【解決手段】放射線ビームの断面を変調する個別制御可能な要素のアレイと、基板を支持する基板テーブルと、変調された放射線ビームを基板のターゲット部分に投影してパターンを適用する投影システムと、基板テーブルの位置を決定する位置センサおよびスケールを備えた位置エンコーダとを有するリソグラフィ装置が提供される。パターンは第1および第2のラインを有し、第1のラインは第2のラインからオフセットされている。スケールは、直線状であり且つ互いに平行であるように意図された複数のラインを有する。第1および第2のラインのイメージを得るための撮像デバイスが設けられ、イメージ処理ユニットが、複数の位置で測定した第1および第2のラインの間の離隔距離に基づいて、スケールの少なくとも一部の不均一性を決定する。【選択図】図6b
請求項（抜粋）：
放射線ビームを調整するように構成された照明システムと、
前記放射線ビームの断面を変調することが可能な個別に制御可能な要素のアレイと、
基板を支持するように構築された基板テーブルと、
前記変調された放射線ビームを前記基板のターゲット部分に投影し、それにより前記基板の前記ターゲット部分にパターンを適用するように構成された投影システムであって、前記パターンが第1および第2のラインを有し、前記第1のラインが前記第2のラインからオフセットされている投影システムと、
前記基板テーブルの位置を決定するように構成された、位置センサおよびスケールを有する位置エンコーダであって、前記スケールが、直線状であり且つ互いに平行であるように意図された複数のラインを有している位置エンコーダと
を有するリソグラフィ装置において、
前記第1および第2のラインのイメージを得るように構成された撮像デバイスと、
前記第1のラインと前記第2のラインの間の離隔距離を複数の位置で測定し、該複数の離隔距離から、前記スケールの少なくとも一部の不均一性を決定するように構成されたイメージ処理ユニットと
をさらに有するリソグラフィ装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F7/20 501
, H01L21/30 529
2H097AA03
, 2H097CA03
, 2H097GB04
, 2H097KA20
, 2H097KA29
, 2H097LA10
, 2H097LA12
, 5F046BA06
, 5F046BA07
, 5F046CB18
, 5F046FA09
, 5F046FA11
, 5F046FC04
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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