特許
J-GLOBAL ID：200903024707710189
スパッタリング用BaxSr1-xTiO3-yターゲット材
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
倉内 基弘 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-283202
公開番号（公開出願番号）：特開平11-106258
出願日： 1997年10月01日
公開日（公表日）： 1999年04月20日
要約：
【要約】【課題】 パーティクル欠陥の少ない薄膜の製造を可能とし、同時に機械的強度を向上させたBa<SB>x</SB> Sr<SB>1-x</SB> TiO<SB>3-y</SB> で表される焼結体から成るスパッタリング用ターゲット材の開発。【解決手段】 一般式Ba<SB>x</SB> Sr<SB>1-x</SB> TiO<SB>3-y</SB> (但し、0≦x<1、0≦y<0.5)で表されるペロブスカイト型複合酸化物焼結体から成るスパッタリング用ターゲット材において、焼結体の相対密度が97%以上であり、また、焼結体の平均結晶粒径が3μm以下であることを特徴とするスパッタリング用ターゲット材。平均粒径が1μm以下のBa<SB>x</SB> Sr<SB>1-x</SB> TiO<SB>3</SB> 合成粉末をホットプレス法、これとHIPを併用する方法、常圧焼結法とHIPを併用する方法により焼成することにより製造する。
請求項（抜粋）：
一般式Ba<SB>x</SB> Sr<SB>1-x</SB> TiO<SB>3-y</SB> (但し、0≦x<1、0≦y<0.5)で表されるペロブスカイト型複合酸化物焼結体から成るスパッタリング用ターゲット材において、焼結体の相対密度が97%以上であり、また、焼結体の平均結晶粒径が3μm以下であることを特徴とするスパッタリング用ターゲット材。
IPC (4件)：
C04B 35/46
, C23C 14/34
, H01L 27/108
, H01L 21/8242
C04B 35/46 E
, C23C 14/34 A
, H01L 27/10 651
審査官引用 (1件)
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セラミック工学ハンドブック, 19890410, 669-671頁
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