電子ビーム露光マスク及びその製造方法及び電子ビーム露光方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：岡本啓三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-020786
公開番号（公開出願番号）：特開平7-312341
出願日： 1995年02月08日
公開日（公表日）： 1995年11月28日
要約：

【要約】【目的】電子ビーム露光マスクに関し、荷電粒子透過部が島状又は半島状に形成されるようなパターンを含んでいても精度良いパターンを形成すること。【構成】1ショットによりパターンを形成する電子ビーム露光マスクにおいて、荷電粒子を遮蔽する電子ビーム遮蔽パターン21と、前記荷電粒子遮蔽パターン21の周縁に沿って梁24, 25,27を挟んで一列に配置された複数の開孔部22, 23, 26とを含む。

請求項（抜粋）：

1ショットによりパターンを形成する電子ビーム露光マスクにおいて、荷電粒子を遮蔽する電子ビーム遮蔽パターンと、前記荷電粒子遮蔽パターンの周縁に沿って梁を挟んで一列に配置された複数の開孔部とを有することを特徴とする電子ビーム露光マスク。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , C23F 1/00 102 , G03F 1/08 , G03F 1/16

FI (2件)：

H01L 21/30 541 S , H01L 21/30 502 P

引用特許：

出願人引用 (9件)

特開平2-114512
特開平4-137520
特開平4-261012

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審査官引用 (8件)

特開昭52-095177
特開平2-114512
特開昭52-095177

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