特許
J-GLOBAL ID：200903025072143599
焦点調整装置
発明者：
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出願人/特許権者：
,
代理人 (5件)：
石田 敬
, 鶴田 準一
, 小林 龍
, 西山 雅也
, 樋口 外治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-083339
公開番号（公開出願番号）：特開2004-294526
出願日： 2003年03月25日
公開日（公表日）： 2004年10月21日
要約：
【課題】撮影対象であるウエハやマスクの照明輝度や光学系の差に影響されず、少ない撮影回数で最適な焦点調整を行う、半導体製造装置のウエハとマスクの位置合わせ用カメラの焦点調整装置を提供する。【解決手段】焦点調整装置1を、一定間隔で配置されたパターン7を撮影する撮影手段3と、撮影された画像中の画素値のパターン配置に沿った変化のスペクトル強度の最大ピーク値を算出するスペクトル強度算出手段13と、焦点位置と、該焦点位置に対応する前記最大ピーク値との間の関数を導出する関数導出手段15と、該関数に基づいて、前記最大ピーク値が最大となる焦点位置を算出する焦点位置算出手段17とを備えて構成した。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
所望の焦点位置にある面上に一定間隔で配置されたパターンを撮影する撮影手段と、
前記撮影手段により撮影された前記パターンの画像における、画素値の前記配置に沿う変化のスペクトル強度の最大ピーク値を算出するスペクトル強度算出手段と、
前記撮影手段の焦点位置と、該焦点位置において撮影した前記パターンの画像に対応する前記最大ピーク値との間の関数を、複数の焦点位置と、前記各焦点位置において各々撮影した前記パターンの画像に対応する前記最大ピーク値とにより導出する関数導出手段と、
前記関数導出手段により導出した前記関数に基づいて、前記最大ピーク値が最大となる焦点位置を、前記撮影手段の焦点調整目標値として算出する焦点位置算出手段とを備える焦点調整装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G02B7/11 N
, G02B7/11 D
, G02B7/11 M
2H051AA10
, 2H051BA72
, 2H051CE12
