リソグラフィ露光装置およびリソグラフィ処理

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：石田敬 (外4名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-503789
公開番号（公開出願番号）：特表2000-507749
出願日： 1997年06月12日
公開日（公表日）： 2000年06月20日
要約：

【要約】基板(36)用の保持具(38)と、前記基板の感光層(34)上に光点を形成するための露光ユニット(10,12,14,16)と、前記露光ユニットと前記保持具との間で明らかな動きを形成するための移動ユニット(40)と、前記感光層上の光点の強さ及び位置を制御するための制御ユニットとを具備し、該制御ユニットによりリソグラフィにより短時間内に小さな構造を効果的に形成できるリソグラフィ露光装置を形成するために、本発明は露光ユニットが複数の固定状態のレーザ(10)を具備し、焦点ユニット(16)が各固定状態レーザのレーザビームを所定の光点パターンの光点に導き、光点パターン全体と保持具とが露光移動方向において互いに対して変位可能であり、露光すべき部分的な領域の形状に一致する光点パターンの光点が作動され、または停止されることを提案する。

請求項（抜粋）：

光に感光する層を備えた基板用のマウント装置と、レーザと前記マウント装置に保持された基板の感光層上に光点を形成するための光学ビーム案内手段とを備えた露光ユニットと、前記露光ユニットの光学ビーム案内手段と前記マウント装置との間で相対移動を生ぜしめるための移動ユニットと、前記基板の感光層上の光点の強さと位置とを制御するコントローラとを具備するリソグラフィ露光装置において、前記露光ユニットが複数の半導体レーザ(101〜10N)を具備し、前記光学ビーム案内手段(16)が所定の光点パターン(70)の光点(601〜60N)へ各半導体レーザのレーザ放射を案内し、前記光点パターン(70)全体と前記マウント装置(38)とが露光移動方向(104)において相対的に移動可能であり、これにより前記光点パターン(70)の光点(601〜60N)が露光すべき部分(100)の形状に従って作動または停止可能であることを特徴とするリソグラフィ露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 505

FI (2件)：

H01L 21/30 518 , G03F 7/20 505

引用特許：

出願人引用 (5件)

パターン発生装置用のラスタライザ
公報種別：公表公報出願番号：特願平6-511191 出願人：イーテック・システムズ・インコーポレーテッド
特表平7-507398
レーザ放電イメージング方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-179356 出願人：プレステク,インコーポレイテッド

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審査官引用 (5件)

パターン発生装置用のラスタライザ
公報種別：公表公報出願番号：特願平6-511191 出願人：イーテック・システムズ・インコーポレーテッド
特表平7-507398
レーザ放電イメージング方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-179356 出願人：プレステク,インコーポレイテッド

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