特許
J-GLOBAL ID:200903025184685645

フェライト顆粒の製造方法、フェライト成形体、フェライト焼結体および電子部品

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 前田 均 ,  西出 眞吾 ,  大倉 宏一郎 ,  佐藤 美樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-095774
公開番号(公開出願番号):特開2004-299977
出願日: 2003年03月31日
公開日(公表日): 2004年10月28日
要約:
【課題】表面欠陥のないフェライト焼結体を得ることが可能なフェライト顆粒の製造方法を提供すること。【解決手段】造粒後のフェライト顆粒に、金属石鹸の水分散物を、スプレーノズルを用いてミスト径10〜100μmの液滴で噴霧する、フェライト顆粒の製造方法。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
造粒後のフェライト顆粒に、金属石鹸の水分散物を、スプレーノズルを用いてミスト径10〜100μmの液滴で噴霧することを特徴とするフェライト顆粒の製造方法。
IPC (5件):
C04B35/622 ,  B01J2/16 ,  B01J2/28 ,  B01J2/30 ,  H01F1/36
FI (5件):
C04B35/26 A ,  B01J2/16 ,  B01J2/28 ,  B01J2/30 ,  H01F1/36
Fターム (14件):
4G004KA04 ,  4G004MA03 ,  4G004NA01 ,  4G004PA02 ,  4G018AA23 ,  4G018AA24 ,  4G018AA25 ,  4G018AC01 ,  4G018AC05 ,  5E041BB03 ,  5E041BD01 ,  5E041HB17 ,  5E041NN04 ,  5E041NN06
引用特許:
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る