特許
J-GLOBAL ID：200903025211490037
パターン作成方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
國分 孝悦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-091556
公開番号（公開出願番号）：特開2004-301892
出願日： 2003年03月28日
公開日（公表日）： 2004年10月28日
要約：
【課題】半導体装置の製造パターンデータを構成する合計図形数を削減することを課題とする。【解決手段】まず、半導体装置のパターンを設計するための設計パターンデータを記憶装置に記憶させる。次に、設計パターンデータのパターン図形の輪郭線上の各点を補正する。次に、補正された設計パターンデータを基に0度及び90度以外の角度を有する図形を含む一又は複数の図形の組み合わせである製造パターンデータを作成する。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
半導体装置のパターンを設計するための設計パターンデータを記憶装置に記憶させる記憶ステップと、
前記設計パターンデータのパターン図形の輪郭線上の各点を補正する補正ステップと、
前記補正された設計パターンデータを基に0度及び90度以外の角度を有する図形を含む一又は複数の図形の組み合わせである製造パターンデータを作成する作成ステップとを有するパターン作成方法。
IPC (3件)：
G03F1/08
, G03F7/20
, H01L21/027
G03F1/08 A
, G03F7/20 521
, H01L21/30 502P
2H095BA06
, 2H095BA08
, 2H095BB01
