特許

J-GLOBAL ID：200903025271225448

荷電ビーム露光装置

発明者： 鈴木 正平
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-237363
公開番号（公開出願番号）：特開平11-087208
出願日： 1997年09月02日
公開日（公表日）： 1999年03月30日
要約：

【要約】【課題】 サブフィールドが大きな場合であっても精度良く露光できる荷電ビーム露光装置の提供。【解決手段】 マスク6上の複数のサブフィールド60にパターンを分割して形成し、各サブフィールド60毎に荷電ビーム2を照射して各サブフィールド60のパターンの像をウェハ7上に順に繋げて投影露光する荷電ビーム露光装置において、制御装置14は、マスク6のサブフィールド60に照射される荷電ビーム2の電流量およびサブフィールド60内におけるパターンの分散状態に基づいて、クーロン効果によって生じる焦点位置ずれおよびサブフィールド60の像の歪みが小さくなるように補正レンズ9〜11およびスティグメータ12,13を制御する。

請求項（抜粋）：

マスク上の複数の小領域にパターンを分割して形成し、前記各小領域毎に荷電ビームを照射して前記各小領域のパターンの像を感応基板上に順に繋げて投影露光する荷電ビーム露光装置において、クーロン効果によって生じる焦点位置ずれおよび/または前記小領域の像の歪みをそれぞれ補正する補正手段を備えることを特徴とする荷電ビーム露光装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/207 ,  H01J 37/304

FI (5件)：

H01L 21/30 541 F ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/207 H ,  H01J 37/304

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 荷電粒子線描画装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-174903   出願人：株式会社ニコン
• 電子ビーム・システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-257155   出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
• 荷電粒子線によるパターン転写方法および転写装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-169609   出願人：株式会社ニコン
• 荷電粒子線露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-157488   出願人：株式会社ニコン