ポリシロキサンとその製造方法および感放射線性樹脂組成物

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：福沢俊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-111786
公開番号（公開出願番号）：特開2002-308990
出願日： 2001年04月10日
公開日（公表日）： 2002年10月23日
要約：

【要約】【課題】 193nm以下の波長において透明性が高く、高感度であり、かつドライエッチング耐性、現像性、基板への接着性等にも優れた感放射線性樹脂組成物を与えるポリシロキサン、該ポリシロキサンの製造方法、および該ポリシロキサンを含有する感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】ポリシロキサンは、その酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる、アルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の酸解離性基含有ポリシロキサンであって、Mw/Mn比が2.5以下であることを特徴とする。該ポリシロキサンは、原料シラン化合物を酸性触媒の存在下で重縮合させる工程を有する方法により製造される。

請求項（抜粋）：

その酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる、アルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の酸解離性基含有ポリシロキサンであって、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)によるポリスチレン換算重量平均分子量と数平均分子量との比が2.5以下であることを特徴とするポリシロキサン。

IPC (6件)：

C08G 77/14 , C08K 5/00 , C08L 83/06 , G03F 7/039 601 , G03F 7/075 511 , H01L 21/027

FI (6件)：

C08G 77/14 , C08K 5/00 , C08L 83/06 , G03F 7/039 601 , G03F 7/075 511 , H01L 21/30 502 R

Fターム (42件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AA06 , 2H025AA09 , 2H025AA14 , 2H025AB16 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025BJ10 , 2H025CB33 , 2H025CB41 , 2H025CB56 , 4J002CP051 , 4J002EN136 , 4J002EV236 , 4J002EV296 , 4J002EW176 , 4J002FD206 , 4J002GP03 , 4J035AB01 , 4J035BA02 , 4J035BA04 , 4J035BA12 , 4J035BA14 , 4J035CA01N , 4J035CA06N , 4J035CA061 , 4J035CA07N , 4J035CA071 , 4J035CA10N , 4J035CA101 , 4J035CA16N , 4J035EB01 , 4J035EB03 , 4J035EB04 , 4J035EB10 , 4J035LA03 , 4J035LB16

引用特許：

審査官引用 (5件)

ケイ素含有ポリマ並びにこれを用いたレジスト組成物及びレジストパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-220605 出願人：富士通株式会社
重合体、レジスト樹脂組成物、及びそれらを用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-219539 出願人：昭和電工株式会社
高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-070208 出願人：信越化学工業株式会社, 松下電器産業株式会社, セントラル硝子株式会社

全件表示

前のページに戻る