位相シフトマスクおよび位相シフトマスク用ブランクスの製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小西淳美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-307847
公開番号（公開出願番号）：特開平6-130649
出願日： 1992年10月22日
公開日（公表日）： 1994年05月13日
要約：

【要約】【目的】 SOGをシフタ層として用いた、位相シフトマスクまたは位相シフトマスク用ブランクスにおいて、基板とSOGシフタとの密着性の改善【構成】 SOGをシフタ層とした、下地基板、SOG膜、遮光膜をこの順に配してなる位相シフトマスクおよび位相シフトマスク用ブランクスの製造方法において、Ar、Xe等の不活性のガスブラズマで、下地基板を清浄化処理した後にSOG膜を塗布することを特徴とする製造方法

請求項（抜粋）：

SOG(スピン・オン・グラス)をシフタ層とする、下地基板、SOG膜、遮光膜をこの順に配してなる位相シフトマスク製造工程において、すくなくとも、下地基板を変質させず、下地基板にSOGと反応性の残留物もしくは生成物をのこさない不活性なガスプラズマで下地基板表面を清浄化処理し、次いで、SOG膜を塗布していることを特徴とする位相シフトマスクの製造方法

IPC (2件)：

G03F 1/08 , H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 301 P , H01L 21/30 311 W

引用特許：

出願人引用 (6件)

特開昭52-046775
特開昭55-015620
特開昭62-092444

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審査官引用 (1件)

特開昭52-046775

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