特許
J-GLOBAL ID：200903025379048569
真空浸炭センサとこれを用いた真空浸炭処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
堀田 実
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-172839
公開番号（公開出願番号）：特開2005-351761
出願日： 2004年06月10日
公開日（公表日）： 2005年12月22日
要約：
【課題】 真空浸炭処理に伴う被処理品の浸炭状況をリアルタイムで直接把握することができ、履歴の影響を回避でき、フィードバック制御(操業)ができ、最終被処理品の品質を安定化することができ、2室炉や連続炉にも対応可能である真空浸炭センサとこれを用いた真空浸炭処理方法を提供する。【解決手段】 真空浸炭センサ10が、被処理材1と同一又は類似の組成と一定の断面形状と長さを有し、真空処理炉内で被処理材と同時に浸炭処理されるセンサピース12と、センサピースの両端に接続された1対のリード線14と、真空処理炉の外部に設置され1対のリード線間の抵抗値を検出する抵抗検出手段16と、からなる。この真空浸炭センサ10を被処理品1の近傍に設置し、真空処理炉2内で被処理材と同時に浸炭処理し、検出された抵抗値から被処理品の浸炭量を把握する。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
被処理材と同一又は類似の組成と一定の断面形状と長さを有し、真空処理炉内で被処理材と同時に浸炭処理されるセンサピースと、該センサピースの両端に接続された1対のリード線と、真空処理炉の外部に設置され1対のリード線間の抵抗値を検出する抵抗検出手段と、からなることを特徴とする真空浸炭センサ。
IPC (3件)：
G01N27/04
, C21D1/06
, C23C8/20
G01N27/04 Z
, C21D1/06 A
, C23C8/20
2G060AA10
, 2G060AD04
, 2G060AE21
, 2G060AE40
, 2G060AF07
, 2G060AG03
, 2G060EB04
, 2G060EB07
, 2G060GA03
, 2G060KA09
, 4K028AA01
, 4K028AB01
, 4K028AC03
出願人引用 (2件)
審査官引用 (5件)
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