特許
J-GLOBAL ID:200903025439261453
ウェハ処理装置、そのウェハ位置ずれ検出装置およびウェハ位置ずれ検出方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
田宮 寛祉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-180182
公開番号(公開出願番号):特開2001-358208
出願日: 2000年06月15日
公開日(公表日): 2001年12月26日
要約:
【要約】【課題】 正常位置に対してどの方向に位置ずれが生じても確実に位置ずれを検出でき、少数の光学的センサを用いて検出できるウェハ位置ずれ検出装置およびウェハ位置ずれ検出方法を提供する。【解決手段】 ウェハ処理装置においてベースに対する位置が不変の第1と第2の光センサ13,14を備え、第1と第2の光センサは、アーム機構部が最縮状態であるとき第1光センサがウェハ17で遮光状態となりかつ第2光センサが受光状態となり、またアーム機構部が最縮状態以外の状態にあるとき第1光センサが受光状態となりかつ第2光センサが遮光状態となるような位置関係で配置される。第1回目のウェハ検出で第1光センサが受光状態かつ第2光センサが遮光状態となり、第2回目のウェハ検出で第1光センサが遮光状態かつ第2光センサが受光状態となるときにウェハは正常位置にあると判定され、それ外の場合には位置ずれが生じたと判定される。
請求項(抜粋):
ウェハの処理が行われる真空容器に対して前記ウェハを搬入しまたは搬出するロボットアームを備え、前記ロボットアームは回転自在なベースとこのベース上に設けられた伸びと縮みの動作を行うアーム機構部とこのアーム機構部の先部に取り付けられた爪付き把持プレートとを含み、前記把持プレートの上に前記ウェハが搭載されるウェハ処理装置において、前記ベースに対する位置が不変の第1と第2の光センサを設け、前記第1光センサと前記第2光センサによる2回の検出動作の組合せで前記ウェハの位置ずれの有無を判定するウェハ位置ずれ検出装置を備えたことを特徴とするウェハ処理装置。
IPC (3件):
H01L 21/68
, B25J 15/08
, B65G 49/07
FI (4件):
H01L 21/68 S
, H01L 21/68 F
, B25J 15/08 Z
, B65G 49/07 C
Fターム (23件):
3F061AA01
, 3F061BA01
, 3F061BC09
, 3F061BE02
, 3F061BE26
, 3F061BE36
, 3F061DB04
, 3F061DD01
, 5F031CA02
, 5F031FA01
, 5F031FA07
, 5F031FA12
, 5F031FA15
, 5F031GA10
, 5F031GA15
, 5F031GA44
, 5F031GA47
, 5F031JA05
, 5F031JA17
, 5F031JA29
, 5F031JA36
, 5F031JA51
, 5F031MA04
引用特許:
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