特許
J-GLOBAL ID：200903025490300269

ムラ検査方法および装置

発明者：
上田 邦夫

上田 邦夫 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 五十嵐 孝雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-058430
公開番号（公開出願番号）：特開平9-068497
出願日： 1996年02月20日
公開日（公表日）： 1997年03月11日
要約：
【要約】【課題】 ほぼ周期的に形成された明暗パターンのムラを定量的に検査する。【解決手段】 シャドウマスクのボケ画像を撮像し、ボケ画像内の各処理領域についてパワースペクトル分布を求めて、特定周波数領域FRにおけるパワースペクトルの加算値S1〜S6を算出する。そして、パワースペクトル加算値S1〜S6の最大値を所定の閾値と比較して、その比較結果に従ってムラの良否を判定する。
請求項（抜粋）：
ほぼ周期的に形成された明暗パターンのムラを検査する方法であって、(a)前記明暗パターンのボケ画像を求める工程と、(b)前記ボケ画像内の少なくとも一部の領域についてパワースペクトル分布を求める工程と、(c)前記パワースペクトル分布の所定の空間周波数領域におけるパワースペクトル値を加算してパワースペクトル加算値を求める工程と、(d)前記パワースペクトル加算値と所定の閾値とを比較することによって、前記明暗パターンのムラの良否を判定する工程と、を備えるムラ検査方法。
引用特許：
出願人引用 (4件)
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