特許
J-GLOBAL ID:200903025511893630

液浸フォトリソグラフィのための真空システム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 熊倉 禎男 ,  大塚 文昭 ,  西島 孝喜 ,  須田 洋之
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-516020
公開番号(公開出願番号):特表2008-503079
出願日: 2005年06月06日
公開日(公表日): 2008年01月31日
要約:
【課題】液浸フォトリソグラフィ露光ツールから多相流体を抽出するための真空システムを提供する。【解決手段】ツールから流体を引き出すためのポンプ装置と、ポンプ装置から上流に位置してツールから引き出された流体を気体及び液体相を分離するための抽出タンク(32)とを含む、フォトリソグラフィツールから多相流体の流れを抽出するための真空システム。ポンプ装置は、タンクから気体を抽出するための第1のポンプ(36)とタンク(32)から液体を抽出するための第2のポンプ(38)とを含む。真空システムからツール内の流体(32)に逆に伝達されるあらゆる圧力変動を最小にするために、圧力制御システムは、タンク(32)内の液体及び気体の量を調節することによってタンク(32)内に実質的に一定の圧力を維持する。【選択図】図2
請求項(抜粋):
フォトリソグラフィツールから多相流体の流れを抽出するためのシステムであって、 ツールから流体を引き出すためのポンプ装置と、 前記ポンプ装置から上流に位置して前記ツールから引き出された前記流体を気体及び液体相に分離するための分離手段と、 を含み、 前記ポンプ装置は、前記分離手段から気体を抽出するための第1のポンプユニット及び該分離手段から液体を抽出するための第2のポンプユニットを含み、 前記分離手段内の圧力をその中の気体及び液体の量を調節することによって制御するための圧力制御システム、 を更に含むことを特徴とするシステム。
IPC (1件):
H01L 21/027
FI (1件):
H01L21/30 515D
Fターム (6件):
5F046CB01 ,  5F046CB26 ,  5F046CC01 ,  5F046DA27 ,  5F046DB03 ,  5F046DC14
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • US2004/0075895
審査官引用 (7件)
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