特許
J-GLOBAL ID：200903043550812823

露光装置、露光方法及びデバイス製造方法

発明者：
長坂 博之

長坂 博之 について

, 
奥山 猛

奥山 猛 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について

, 
株式会社ニコンエンジニアリング

株式会社ニコンエンジニアリング について


代理人 (4件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  西 和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-169549
公開番号（公開出願番号）：特開2006-165500
出願日： 2005年06月09日
公開日（公表日）： 2006年06月22日
要約：
【課題】液浸領域を所望状態に維持して良好に露光処理できる露光装置を提供する。【解決手段】露光装置EXは、投影光学系PLと液体LQとを介して基板P上に露光光ELを照射して、基板Pを露光するものであって、液体LQを供給するとともに液体LQを回収する液浸機構1を備え、液浸機構1は、基板Pの表面と対向するように形成された斜面2を有し、液浸機構1の液体回収口22が、斜面2に形成されている。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
投影光学系と液体とを介して基板上に露光光を照射して、前記基板を露光する露光装置において、 前記液体を供給するとともに前記液体を回収する液浸機構を備え、 前記液浸機構は、前記基板の表面と対向するように形成された斜面を有し、 前記液浸機構の液体回収口が、前記斜面に形成されている露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20
FI (3件)：
H01L21/30 515G ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 515D
Fターム (4件)：
5F046BA03 ,  5F046CC08 ,  5F046CD10 ,  5F046DA27
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (5件)
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